| 摘要 | 第4-6页 |
| ABSTRACT | 第6-8页 |
| 第1章 绪论 | 第11-26页 |
| 1.1 引言 | 第11页 |
| 1.2 非线性光学 | 第11-13页 |
| 1.3 非线性光学材料 | 第13-15页 |
| 1.4 氧化石墨烯概述 | 第15-16页 |
| 1.5 Z-扫描技术 | 第16-20页 |
| 1.5.1 Z-扫描技术的一般描述 | 第16-17页 |
| 1.5.2 Z-扫描理论计算 | 第17-19页 |
| 1.5.3 非线性吸收系数β及三阶非线性极化率χ(3)的计算 | 第19-20页 |
| 1.6 本文的主要内容 | 第20-22页 |
| 参考文献 | 第22-26页 |
| 第2章 不同还原程度氧化石墨烯的三阶非线性光学性质 | 第26-40页 |
| 2.1 引言 | 第26-27页 |
| 2.2 实验部分 | 第27-28页 |
| 2.2.1 实验药品与设备 | 第27页 |
| 2.2.2 氧化石墨烯的制备 | 第27-28页 |
| 2.2.3 不同还原程度氧化石墨烯的制备 | 第28页 |
| 2.3 样品表征 | 第28-32页 |
| 2.4 Z-扫描测试结果分析 | 第32-35页 |
| 2.5 本章小结 | 第35-38页 |
| 参考文献 | 第38-40页 |
| 第3章 CdS纳米晶与石墨烯复合材料的三阶非线性光学性质 | 第40-52页 |
| 3.1 引言 | 第40-41页 |
| 3.2 实验部分 | 第41页 |
| 3.2.1 主要实验用品 | 第41页 |
| 3.2.2 CdS纳米晶与石墨烯复合材料的制备 | 第41页 |
| 3.3 测试与表征 | 第41页 |
| 3.4 结果与讨论 | 第41-48页 |
| 3.5 本章小结 | 第48-50页 |
| 参考文献 | 第50-52页 |
| 第4章 总结与展望 | 第52-54页 |
| 4.1 总结 | 第52-53页 |
| 4.2 展望 | 第53-54页 |
| 致谢 | 第54-56页 |
| 攻读学位期间发表的学术论文目录 | 第56页 |
