激光烧蚀与高压放电的辅助制样技术
| 摘要 | 第3-4页 |
| Abstract | 第4页 |
| 1. 绪论 | 第7-22页 |
| 1.1 课题的研究背景 | 第7-9页 |
| 1.2 分子光谱理论 | 第9-15页 |
| 1.2.1 分子的对称元素分类 | 第10-11页 |
| 1.2.2 非对称陀螺分子 | 第11-12页 |
| 1.2.3 分子常见的三种耦合方案 | 第12-15页 |
| 1.3 研究分子转动光谱仪的意义 | 第15-16页 |
| 1.4 辅助制样技术的国内外研究现状 | 第16-20页 |
| 1.5 本论文的主要研究内容 | 第20-22页 |
| 2. 激光烧蚀与高压放电辅助制样的基本理论 | 第22-35页 |
| 2.1 激光的基本原理 | 第22-28页 |
| 2.1.1 光子的基本性质 | 第22页 |
| 2.1.2 光的受激辐射 | 第22-26页 |
| 2.1.3 光的受激辐射放大 | 第26-28页 |
| 2.2 激光烧蚀原理 | 第28-30页 |
| 2.3 高压放电分解技术 | 第30页 |
| 2.4 激光倍频技术 | 第30-34页 |
| 2.5 本章小结 | 第34-35页 |
| 3. 辅助制样系统的搭建 | 第35-45页 |
| 3.1 激光烧蚀和高压放电技术系统的搭建 | 第36-38页 |
| 3.2 样品室的真空技术 | 第38-40页 |
| 3.3 样品室的防外磁场技术 | 第40页 |
| 3.4 气体转动温度的控制技术 | 第40-42页 |
| 3.4.1 微波子系统 | 第40-42页 |
| 3.4.2 毫米-亚毫米波子系统 | 第42页 |
| 3.5 用于提高仪器灵敏度的其他技术 | 第42-44页 |
| 3.6 本章小结 | 第44-45页 |
| 4. 铜化合物的光谱分析 | 第45-54页 |
| 4.1 实验系统参数设定及采样过程 | 第45-47页 |
| 4.2 谱线结果分析 | 第47-51页 |
| 4.3 分子参数结果分析 | 第51-53页 |
| 4.4 本章小结 | 第53-54页 |
| 5. 总结和展望 | 第54-56页 |
| 致谢 | 第56-57页 |
| 参考文献 | 第57-61页 |
| 附录 | 第61页 |
