| 摘要 | 第1-5页 |
| ABSTRACT | 第5-16页 |
| 主要符号表 | 第16-17页 |
| 1 绪论 | 第17-39页 |
| ·研究背景 | 第17-20页 |
| ·偏振器种类与特点 | 第20-21页 |
| ·亚波长金属光栅偏振器与光电探测器集成相关研究 | 第21-37页 |
| ·亚波长结构的计算理论 | 第21-22页 |
| ·亚波长金属光栅偏振器的优化设计研究现状 | 第22-29页 |
| ·亚波长金属光栅与光电探测器的集成工艺研究现状 | 第29-37页 |
| ·本文主要研究内容 | 第37-39页 |
| 2 亚波长金属光栅计算及分析方法研究 | 第39-55页 |
| ·引言 | 第39-40页 |
| ·严格耦合波理论推导 | 第40-45页 |
| ·等效介质理论及法布里珀罗共振理论的计算准确性分析 | 第45-49页 |
| ·等效介质理论的计算准确性分析 | 第45-49页 |
| ·法布里珀罗共振理论(F-P共振理论)的计算准确性分析 | 第49页 |
| ·单层亚波长金属光栅偏振透射机理分析 | 第49-54页 |
| ·光栅金属材料对偏振性能的影响 | 第49-50页 |
| ·光栅占空比对偏振性能的影响 | 第50-52页 |
| ·光栅高度对偏振透射的影响 | 第52-53页 |
| ·光栅面型对偏振透射的影响 | 第53-54页 |
| ·本章总结 | 第54-55页 |
| 3 基于纳米压印的纳米光栅结构制作工艺及应用 | 第55-68页 |
| ·引言 | 第55页 |
| ·软模板复制工艺 | 第55-58页 |
| ·紫外热纳米压印制作压印胶光栅结构 | 第58-62页 |
| ·垂直/倾斜纳米阵列结构的应用研究 | 第62-67页 |
| ·本章总结 | 第67-68页 |
| 4 基于多方向双层金属光栅偏振滤光片的偏振导航传感器样机研究 | 第68-79页 |
| ·引言 | 第68页 |
| ·层纳米光栅偏振滤光片设计 | 第68-71页 |
| ·多方向双层金属光栅偏振滤光片的加工工艺 | 第71-73页 |
| ·基于多方向纳米光栅偏振滤光片的偏振导航传感器样机制作及测试 | 第73-77页 |
| ·本章总结 | 第77-79页 |
| 5 金属纳米光栅与光电探测器集成工艺及集成偏振导航传感器制作 | 第79-108页 |
| ·引言 | 第79-80页 |
| ·光电探测器基底结构及集成工艺中的关键工艺 | 第80-87页 |
| ·光电探测器的清洗工艺 | 第81-83页 |
| ·不平基底的纳米压印工艺 | 第83-85页 |
| ·纳米压印中的对准问题 | 第85-87页 |
| ·层金属光栅与光电探测器基底的集成工艺 | 第87-99页 |
| ·小面积双层金属光栅与光电探测器的集成工艺 | 第87-93页 |
| ·大面积双层金属光栅与光电探测器的集成工艺 | 第93-96页 |
| ·集成偏振导航传感器制作及测试 | 第96-99页 |
| ·单层金属光栅与光电探测器的集成工艺 | 第99-107页 |
| ·各干法刻蚀工艺的前期验证 | 第101-104页 |
| ·集成工艺及集成偏振导航传感器的制作 | 第104-107页 |
| ·本章总结 | 第107-108页 |
| 6 结论与展望 | 第108-110页 |
| ·全文总结 | 第108-109页 |
| ·创新点 | 第109页 |
| ·后继工作展望 | 第109-110页 |
| 参考文献 | 第110-118页 |
| 附录A 严格耦合波程序 | 第118-123页 |
| 攻读博士学位期间科研项目及科研成果 | 第123-125页 |
| 致谢 | 第125-126页 |
| 作者简介 | 第126页 |
