| 摘要 | 第1-6页 |
| ABSTRACT | 第6-8页 |
| 目录 | 第8-10页 |
| 第一章 绪论 | 第10-23页 |
| ·引言 | 第10-11页 |
| ·氮化铝(AlN)的结构及特性 | 第11-12页 |
| ·AlN的结构 | 第11-12页 |
| ·AlN的特性 | 第12页 |
| ·激光分子束外延(LMBE)法制备AlN薄膜的工作原理及特点 | 第12-16页 |
| ·LMBE法的工作原理 | 第12-14页 |
| ·薄膜的生长机理 | 第14-16页 |
| ·影响薄膜结晶质量的因素 | 第16-20页 |
| ·衬底材料的影响 | 第16页 |
| ·衬底温度的影响 | 第16-17页 |
| ·沉积气氛的影响 | 第17页 |
| ·脉冲激光能量的影响 | 第17页 |
| ·偏轴、靶基距的影响 | 第17-18页 |
| ·清洗工艺的影响 | 第18页 |
| ·表面活性剂的影响 | 第18-19页 |
| ·缓冲层的影响 | 第19-20页 |
| ·AlN薄膜的性能研究 | 第20-22页 |
| ·硬度 | 第20页 |
| ·化学稳定性 | 第20页 |
| ·热稳定性 | 第20页 |
| ·电学性能 | 第20-21页 |
| ·光学性能 | 第21-22页 |
| ·本论文选题依据与研究内容 | 第22-23页 |
| 第二章 实验材料与方法 | 第23-26页 |
| ·实验材料 | 第23页 |
| ·衬底清洗工艺 | 第23-24页 |
| ·激光分子束外延制备AlN薄膜的工艺 | 第24-25页 |
| ·AlN薄膜的表征与分析 | 第25-26页 |
| ·薄膜显微组织结构测试 | 第25页 |
| ·薄膜光学性能测试 | 第25-26页 |
| 第三章 AlN薄膜的显微组织结构 | 第26-35页 |
| ·工艺参数对AlN薄膜显微组织结构的影响 | 第26-30页 |
| ·工艺参数的选择 | 第26-28页 |
| ·衬底温度和激光能量对AlN薄膜质量的影响 | 第28-30页 |
| ·预沉积时间对AlN薄膜质量的影响 | 第30-34页 |
| ·预沉积时间对AlN薄膜结构的影响 | 第30-32页 |
| ·预沉积时间对AlN薄膜表面形貌的影响 | 第32-34页 |
| ·本章结论 | 第34-35页 |
| 第四章 AlN薄膜的光学性能 | 第35-43页 |
| ·AlN薄膜透射光谱的分析 | 第35-39页 |
| ·AlN薄膜厚度及折射率计算 | 第35-38页 |
| ·AlN薄膜的吸收系数和禁带宽度 | 第38-39页 |
| ·AlN薄膜晶体结构对其光学性能的影响 | 第39-42页 |
| ·AlN薄膜在不同预沉积时间时的透射光谱 | 第39-40页 |
| ·AlN薄膜在不同预沉积时间时的色散关系 | 第40页 |
| ·AlN薄膜在不同预沉积时间时的禁带宽度 | 第40-42页 |
| ·本章结论 | 第42-43页 |
| 第五章 外界温度对AlN薄膜光学性能的影响 | 第43-51页 |
| ·不同温度下AlN薄膜的吸收曲线 | 第43-44页 |
| ·温度对AlN薄膜禁带宽度的影响 | 第44-48页 |
| ·温度对AlN薄膜吸收带尾的影响 | 第48-50页 |
| ·本章结论 | 第50-51页 |
| 第六章 结论 | 第51-52页 |
| 参考文献 | 第52-59页 |
| 致谢 | 第59-60页 |
| 攻读硕士学位期间发表的论文 | 第60页 |