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双轴应变Ge/Si1-xGex价带结构模型及空穴有效质量研究

摘要第1-4页
Abstract第4-7页
第一章 绪论第7-11页
   ·研究意义第7-8页
   ·研究现状第8-10页
     ·应变 Si 能带结构研究现状第8-9页
     ·应变 SiGe 能带结构研究状况第9页
     ·能带结构计算方法的发展动态第9-10页
   ·本文的主要工作第10-11页
第二章 锗的基本特性与能带计算方法第11-31页
   ·锗的晶格结构第11-12页
   ·锗的能带结构第12-15页
   ·赝势法第15-20页
     ·赝波方程第15-17页
     ·赝势形式因子第17-19页
     ·经验和自洽赝势法第19-20页
   ·紧束缚法第20-28页
     ·分子轨道和重叠参数第21-24页
     ·用紧束缚方法计算 Ge 的能带结构第24-28页
   ·K.P.微扰法第28-29页
   ·小结第29-31页
第三章 应变 Ge 的哈密顿模型第31-41页
   ·应变张量ε第31-39页
     ·应变张量的通解第31-35页
     ·不同晶向的应变张量第35-39页
   ·应变 Ge 的哈密顿模型第39-40页
   ·小结第40-41页
第四章 应变 Ge 价带色散关系模型第41-59页
   ·应变锗价带理论模型第41-47页
   ·应变锗价带 E(k)-k 结构模拟第47-58页
     ·应力对应变 Ge 价带结构的影响第47-49页
     ·不同衬底对应变 Ge 价带结构的影响第49-50页
     ·不同晶向对应变 Ge 价带结构的影响第50-51页
     ·等能线图与等能面图的分析第51-58页
   ·小结第58-59页
第五章 应变 Ge 空穴有效质量的各向异性与各向同性第59-67页
   ·空穴有效质量各向异性第59-62页
     ·理论模型第59-60页
     ·结果与分析第60-62页
   ·空穴有效质量各向同性第62-65页
     ·理论模型第62-63页
     ·结果与分析第63-65页
   ·小结第65-67页
第六章 总结第67-69页
致谢第69-71页
参考文献第71-75页
攻读硕士研究生期间的研究成果第75-76页

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