菁染料吸附对氯化银微晶表面电子陷阱的影响
| 摘要 | 第1-6页 |
| Abstract | 第6-10页 |
| 第1章 引言 | 第10-14页 |
| ·研究意义 | 第10页 |
| ·国内外研究概述 | 第10-13页 |
| ·本文所做的工作 | 第13-14页 |
| 第2章 卤化银的物理特性及染料的吸附与聚集性质 | 第14-18页 |
| ·卤化银的物理特性 | 第14-16页 |
| ·卤化银的结构特性 | 第14-15页 |
| ·卤化银的表面特性 | 第15页 |
| ·卤化银的能级结构 | 第15-16页 |
| ·染料的吸附和聚集特性 | 第16-18页 |
| 第3章 样品制备及检测方法 | 第18-23页 |
| ·样品制备 | 第18-19页 |
| ·卤化银中光电子瞬态行为的检测 | 第19-23页 |
| ·检测原理 | 第19-20页 |
| ·实验装置及检测结果 | 第20-23页 |
| 第4章 光电子衰减的动力学过程 | 第23-32页 |
| ·氯化银乳剂的具体模型和动力学方程 | 第23-25页 |
| ·氯化银乳剂中电子陷阱参数的确定 | 第25-27页 |
| ·陷阱参数的变化对光电子衰减曲线的影响 | 第27-32页 |
| ·表面浅电子陷阱的变化对光电子衰减曲线的影响 | 第28-29页 |
| ·表面深电子陷阱的变化对光电子衰减曲线的影响 | 第29-30页 |
| ·内部深电子陷阱的变化对光电子衰减曲线的影响 | 第30-32页 |
| 第5章 染料吸附对氯化银乳剂光电子衰减的影响 | 第32-39页 |
| ·低增感浓度下的光电子衰减特性 | 第32-35页 |
| ·增感浓度对光电子衰减的影响 | 第32-34页 |
| ·增感时间对光电子衰减的影响 | 第34-35页 |
| ·高增感浓度下的光电子衰减特性 | 第35-39页 |
| ·增感浓度对光电子衰减的影响 | 第35-37页 |
| ·增感时间对光电子衰减的影响 | 第37-39页 |
| 第6章 光电子衰减的动力学分析 | 第39-47页 |
| ·低增感浓度下光电子衰减的动力学分析 | 第39-42页 |
| ·陷阱参数变化 | 第39-40页 |
| ·修饰作用 | 第40-42页 |
| ·高增感浓度下光电子衰减的动力学分析 | 第42-44页 |
| ·陷阱参数变化 | 第42-43页 |
| ·银离子析出作用 | 第43-44页 |
| ·两种作用共同分析 | 第44-46页 |
| ·小结 | 第46-47页 |
| 结束语 | 第47-49页 |
| 参考文献 | 第49-53页 |
| 致谢 | 第53页 |
