三维集成多模干涉型光分束器的研究
| 摘要 | 第1-4页 |
| ABSTRACT | 第4-6页 |
| 目录 | 第6-9页 |
| 第一章 绪论 | 第9-34页 |
| §1.1 集成光学的发展现状 | 第9-10页 |
| §1.2 三维集成光学的提出 | 第10-12页 |
| §1.3 三维集成光学器件的发展现状 | 第12-20页 |
| ·垂直倾斜波导连接法 | 第12-17页 |
| ·键合法 | 第17-20页 |
| §1.4 三维集成光分束器研究及进展 | 第20-25页 |
| ·基于空间波导定向耦合的三维集成光分束器 | 第21-22页 |
| ·基于Y分支的三维集成光分束器 | 第22-23页 |
| ·基于多模干涉器的三维集成光分束器 | 第23页 |
| ·飞秒激光直写技术制作的三维集成光分束器 | 第23-24页 |
| ·键合三维集成光分束器 | 第24-25页 |
| §1.5 本论文的工作意义和内容 | 第25-28页 |
| ·论文的目的 | 第25-26页 |
| ·论文的创新点 | 第26-27页 |
| ·论文内容 | 第27-28页 |
| 参考文献 | 第28-34页 |
| 第二章 一维多模干涉耦合器 | 第34-56页 |
| §2.1 自映像效应 | 第34-36页 |
| §2.2 导模传输分析法 | 第36-37页 |
| §2.3 多模干涉耦合器一般成像特性分析 | 第37-47页 |
| ·多模干涉耦合器一般成像位置分析 | 第39-43页 |
| ·多模干涉耦合器一般成像相位分析 | 第43-47页 |
| §2.4 多模干涉耦合器重叠成像特性分析 | 第47-53页 |
| ·出现重叠成像的条件 | 第47页 |
| ·成像位置和成像个数 | 第47-50页 |
| ·重叠像的强度、相位分析 | 第50-52页 |
| ·出现重叠像相干相消的情况 | 第52页 |
| ·特殊重叠成像 | 第52-53页 |
| §2.5 小结 | 第53-54页 |
| 参考文献 | 第54-56页 |
| 第三章 二维多模干涉耦合器 | 第56-82页 |
| §3.1 三维矩形波导的马卡梯里分析 | 第57-59页 |
| §3.2 二维限制多模干涉耦合器工作原理 | 第59-63页 |
| ·单像 | 第60-62页 |
| ·多像 | 第62-63页 |
| §3.3 二维多模干涉耦合器一般成像特性分析 | 第63-70页 |
| §3.4 二维多模干涉耦合器重叠成像特性分析 | 第70-75页 |
| ·x方向输入位置满足重叠成像条件 | 第70-73页 |
| ·y方向输入位置满足重叠成像条件 | 第73页 |
| ·两个方向输入位置都满足重叠成像条件 | 第73-75页 |
| §3.5 基于二维多模干涉耦合器的功能性器件 | 第75-80页 |
| ·区域调制型可调分光比分束器的分析 | 第76-79页 |
| ·区域调制型可调分光比分束器的制作与测试 | 第79-80页 |
| §3.6 小结 | 第80-81页 |
| 参考文献 | 第81-82页 |
| 第四章 器件特性分析、制作及测试 | 第82-100页 |
| §4.1 器件设计 | 第82-83页 |
| §4.2 器件特性分析 | 第83-86页 |
| §4.3 器件制作工艺 | 第86-92页 |
| ·基片和光刻版清洗 | 第87-88页 |
| ·氧化工艺 | 第88页 |
| ·光刻工艺 | 第88-90页 |
| ·干法刻蚀和湿法修正 | 第90-92页 |
| §4.4 测试前的准备工作 | 第92-94页 |
| ·抛光工艺 | 第92-93页 |
| ·输入光纤的腐蚀和端面处理 | 第93-94页 |
| §4.5 器件测试 | 第94-98页 |
| ·测试系统 | 第94-96页 |
| ·测试结果 | 第96-98页 |
| §4.6 小结 | 第98-99页 |
| 参考文献 | 第99-100页 |
| 第五章 空间多波导之间的耦合 | 第100-110页 |
| §5.1 引言 | 第100页 |
| §5.2 空间多波导的耦合方程 | 第100-102页 |
| §5.3 空间多波导的耦合特例 | 第102-106页 |
| ·空间三波导 | 第102-105页 |
| ·空间四波导 | 第105-106页 |
| §5.4 空间多波导调制特性研究 | 第106-108页 |
| §5.5 小结 | 第108-109页 |
| 参考文献 | 第109-110页 |
| 第六章 总结和展望 | 第110-112页 |
| §6.1 总结 | 第110页 |
| §6.2 存在的问题与前景展望 | 第110-112页 |
| 参考文献 | 第112-113页 |
| 致谢 | 第113-114页 |
| 附录 | 第114-115页 |
