| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-7页 |
| 目录 | 第7-9页 |
| 1 绪论 | 第9-15页 |
| ·光开关在光网络中的重要作用 | 第9-10页 |
| ·热光开关原理、利用聚合物制备热光光开关的重要意义 | 第10-13页 |
| ·聚合物热光开关的研究进展及展望 | 第13-14页 |
| ·课题的来源、意义与研究内容 | 第14-15页 |
| 2 聚合物材料的合成 | 第15-25页 |
| ·引言 | 第15页 |
| ·聚酰亚胺的合成原理 | 第15-19页 |
| ·聚酰亚胺材料的制备 | 第19-22页 |
| ·聚酰亚胺薄膜测试 | 第22-24页 |
| ·结论 | 第24-25页 |
| 3 聚合物薄膜制备工艺 | 第25-35页 |
| ·引言 | 第25页 |
| ·聚合物薄膜的制备及其性能测试 | 第25-27页 |
| ·测试结果 | 第27-33页 |
| ·可能出现的各种缺陷及避免方法 | 第33-34页 |
| ·结论 | 第34-35页 |
| 4 金属掩膜层的磁控溅射 | 第35-42页 |
| ·引言 | 第35页 |
| ·磁控溅射工作原理和特点 | 第35-38页 |
| ·影响磁控溅射薄膜质量的工艺因素 | 第38-39页 |
| ·磁控溅射制作金属掩膜层试验 | 第39-41页 |
| ·结论 | 第41-42页 |
| 5 光刻:波导微图形制作 | 第42-53页 |
| ·引言 | 第42页 |
| ·曝光机与光刻胶 | 第42-43页 |
| ·光刻工艺流程 | 第43-47页 |
| ·可能产生的缺陷:成因及改进方法 | 第47-50页 |
| ·部分光刻出的微图形 | 第50-52页 |
| ·结论 | 第52-53页 |
| 6 ICP刻蚀原理与工艺 | 第53-65页 |
| ·引言 | 第53页 |
| ·等离子刻蚀基本原理 | 第53-57页 |
| ·新型等离子刻蚀技术: RIE与ICP | 第57-59页 |
| ·ICP刻蚀试验设备 | 第59-60页 |
| ·影响ICP刻蚀的各工艺参数讨论 | 第60-62页 |
| ·刻蚀出的聚酰亚胺波导外形 | 第62-64页 |
| ·结论 | 第64-65页 |
| 7 全文总结 | 第65-66页 |
| 致谢 | 第66-67页 |
| 参考文献 | 第67-71页 |
| 附录1 攻读学位期间发表论文目录 | 第71页 |