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Fe78Si9B13非晶合金低频磁脉冲处理效应及其经验电子理论研究

摘要第1-7页
Abstract第7-14页
第一章 绪论第14-34页
   ·非晶态合金第14-28页
     ·非晶态合金的基本特征第14页
     ·非晶态合金的发展简史第14-15页
     ·非晶态合金的玻璃形成能力第15-18页
     ·非晶态合金的制备方法第18-19页
     ·非晶态合金的晶化第19-22页
       ·非晶态合金的晶化转变方式第19-20页
       ·非晶态合金的晶化过程第20-21页
       ·影响非晶晶化的因素第21-22页
     ·Fe-Si-B系非晶态合金简介第22-28页
       ·Fe-Si-B系非晶态合金的发展第22-23页
       ·Fe-Si-B系非晶态合金的成分及结构模型第23-26页
       ·Fe-Si-B系非晶态合金的晶化第26-28页
   ·非晶-纳米晶软磁合金第28-32页
     ·非晶-纳米晶软磁合金的制备第28-29页
     ·非晶-纳米晶软磁合金的微结构特点第29-30页
     ·非晶-纳米晶软磁合金的分类第30-32页
   ·本论文的研究背景、目的及主要研究内容第32-34页
     ·本论文的研究背景和目的第33页
     ·本论文的主要研究内容第33-34页
第二章 经验电子理论概述第34-44页
   ·引言第34页
   ·材料科学电子理论的国内外研究进展第34-36页
   ·余氏理论简介第36-39页
   ·程氏改进的TFD理论简介第39-41页
     ·程氏改进的TFD理论的要点第39-40页
     ·程氏改进的TFD理论与余氏理论(EET)的关系第40-41页
   ·C-Me偏聚理论及相结构因子与界面结合因子简介第41-44页
     ·固相合金中的C-Me偏聚理论的基本观点第41-42页
     ·相结构因子与界面结合因子第42-44页
第三章 非晶样品的低频磁脉冲处理及其测试方法第44-52页
   ·脉冲磁场处理第44-45页
   ·试样的温升测量第45-47页
   ·差示扫描量热分析第47页
   ·穆斯堡尔谱分析第47-50页
   ·X射线衍射分析(XRD)第50页
   ·透射电镜分析(TEM)第50-51页
   ·试样的软磁性能测量第51-52页
第四章 低频磁脉冲处理非晶Fe_(78)Si_9B_(13)的微结构研究第52-68页
   ·引言第52页
   ·低频磁脉冲处理前后Fe_(78)Si_9B_(13)非晶合金的微结构第52-56页
     ·XRD和TEM观察第52-53页
     ·穆斯堡尔谱的观察第53-56页
   ·低频磁脉冲处理对样品的超精细结构的影响第56-62页
     ·低频磁脉冲处理对样品的穆斯堡尔谱的影响第56-58页
     ·低频磁脉冲处理对样品超精细磁场的影响第58-59页
     ·低频磁脉冲处理对纳米晶组织结构的影响第59-61页
     ·低频磁脉冲参数对纳米晶超精细结构的影响第61-62页
   ·低频磁脉冲处理对样品磁性的影响第62-67页
     ·脉冲频率对磁性的影响第62-63页
     ·脉冲处理时间对磁性的影响第63-64页
     ·脉冲磁场强度对磁性的影响第64-65页
     ·低频磁脉冲处理参数影响磁性的原因第65-67页
   ·小结第67-68页
第五章 低频磁脉冲处理非晶Fe_(78)Si_9B_(13)的相变热力学和动力学研究第68-88页
   ·引言第68页
   ·低频磁脉冲处理Fe_(78)Si_9B_(13)非晶合金的相变热力学第68-72页
     ·固态相变的热力学条件第68页
     ·相变过程的热力学参数第68-71页
     ·晶界的形成对相变的影响第71-72页
   ·低频磁脉冲处理Fe_(78)Si_9B_(13)非晶合金的相变动力学第72-79页
     ·低频磁脉冲处理Fe_(78)Si_9B_(13)非晶合金的相变激活能第72-77页
     ·脉冲处理参数对相变激活能的影响第77-79页
       ·脉冲频率对相变激活能的影响第77-78页
       ·脉冲磁场强度对相变激活能的影响第78-79页
     ·非晶合金成分对相变激活能的影响第79页
   ·低频磁脉冲处理Fe_(78)Si_9B_(13)非晶合金的结构演化第79-83页
     ·非晶态合金结构弛豫第79-80页
     ·Fe-Si-B系非晶合金磁致低温纳米晶化的结构演化第80-83页
   ·脉冲磁场对非晶晶化行为的影响机理第83-85页
     ·Fe-Si-B非晶合金磁致低温纳米晶化的能量变化第83-84页
     ·Fe-Si-B非晶合金磁致低温纳米晶化的物理机理第84-85页
   ·小结第85-88页
第六章 低频磁脉冲处理非晶Fe_(78)Si_9B_(13)的相结构因子和磁性第88-116页
   ·引言第88-89页
   ·低频磁脉冲处理后晶化相的价电子结构和磁矩的计算第89-97页
     ·α-Fe晶胞价电子结构的计算第89-92页
       ·α-Fe的晶态结构资料第89-90页
       ·实验键距第90页
       ·等同键数第90页
       ·键距方程和r_α的计算第90-91页
       ·n_A方程和n_α的计算第91页
       ·理论键距的计算第91页
       ·键距差ΔD_(nα)的计算第91-92页
     ·α-Fe晶胞磁矩的计算第92-93页
     ·α-Fe-Si晶胞价电子结构的计算第93-96页
     ·α-Fe-Si晶胞磁矩的计算第96页
     ·晶化相总磁矩的计算第96-97页
   ·非晶相的价电子结构和磁矩的计算第97-112页
     ·α-Fe晶胞价电子结构的计算第97页
     ·α-Fe晶胞磁矩的计算第97-98页
     ·α-Fe-Si晶胞价电子结构的计算第98页
     ·α-Fe-Si晶胞磁矩的计算第98-99页
     ·α-Fe-B晶胞价电子结构的计算第99-104页
     ·α-Fe-B晶胞磁矩的计算第104页
     ·α-Fe-Si-B晶胞价电子结构的计算第104-110页
     ·α-Fe-Si-B晶胞磁矩的计算第110页
     ·非晶相总磁矩的计算第110-112页
   ·脉冲磁场处理后的双相合金磁矩的计算第112页
   ·理论计算值与实测值比较第112-114页
   ·小结第114-116页
第七章 磁脉冲处理Fe_(78)Si_9B_(13)的相界面电子结构及晶化机理的EET探讨第116-128页
   ·引言第116页
   ·异相界面的价电子结构参数第116-117页
   ·非晶相的α-Fe类(110)与α-Fe-Si类(110)界面的电子结构第117-119页
     ·非晶相α-Fe晶胞类(110)面的电子密度第118页
     ·非晶相α-Fe-Si晶胞类(110)面的电子密度第118-119页
     ·非晶相α-Fe类(110)//非晶相α-Fe-Si类(110)界面的电子密度差第119页
   ·非晶相α-Fe类(110)与非晶相α-Fe-B类(110)界面的电子结构第119-120页
     ·非晶相α-Fe-B晶胞类(110)面的电子密度第119-120页
     ·非晶相α-Fe类(110)//非晶相α-Fe-B类(110)界面的电子密度差第120页
   ·非晶相的α-Fe类(110)与α-Fe-Si-B类(110)界面的电子结构第120-121页
     ·非晶相α-Fe-Si-B晶胞类(110)面的电子密度第120-121页
     ·非晶相α-Fe类(110)//非晶相α-Fe-Si-B类(110)界面的电子密度差第121页
   ·非晶相α-Fe类(110)与晶化相α-Fe(110)界面的电子结构第121-122页
     ·晶化相α-Fe晶胞(110)面的电子密度第121-122页
     ·非晶相α-Fe类(110)//晶化相α-Fe(110)界面的电子密度差第122页
   ·非晶相α-Fe类(110)与晶化相α-Fe-Si(110)界面的电子结构第122-123页
     ·晶化相α-Fe-Si晶胞(110)面的电子密度第122-123页
     ·非晶相α-Fe类(110)//晶化相α-Fe-Si(110)界面的电子密度差第123页
   ·晶化相α-Fe(110)与晶化相α-Fe-Si(110)界面的电子结构第123-124页
   ·非晶Fe_(78)Si_9B_(13)合金磁致低温纳米晶化的微观机理第124-126页
     ·电子结构与形核率第124-125页
     ·电子结构与晶粒的生长第125-126页
   ·小结第126-128页
第八章 总结论第128-130页
参考文献第130-145页
致谢第145-146页
攻读学位期间发表的论著和科研情况第146-147页
作者简历第147页

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