铁电薄膜的频率依赖关系研究
摘要 | 第1-5页 |
Abstract | 第5-9页 |
第1章 绪论 | 第9-20页 |
·铁电材料 | 第9-11页 |
·铁电材料简介 | 第9-10页 |
·铁电材料的分类 | 第10-11页 |
·铁电薄膜 | 第11-15页 |
·铁电薄膜的发展历史 | 第12页 |
·铁电薄膜性能及应用 | 第12-13页 |
·铁电薄膜制备方法 | 第13-15页 |
·铁电存储器(FeRAM) | 第15-17页 |
·铁电存储器概况 | 第15-16页 |
·铁电存储器的发展 | 第16-17页 |
·频率依赖关系 | 第17-18页 |
·选题背景及研究内容 | 第18-20页 |
第2章 BNT 铁电薄膜的 CSD 法制备 | 第20-31页 |
·化学溶液沉积法(CSD) | 第20-21页 |
·CSD 法简介 | 第20-21页 |
·CSD 法基本原理 | 第21页 |
·实验设备 | 第21-23页 |
·实验材料 | 第23-24页 |
·实验器材 | 第23页 |
·实验所需药品 | 第23页 |
·衬底基片 | 第23-24页 |
·制备工艺 | 第24-26页 |
·前期准备工作 | 第24页 |
·配制前驱溶液 | 第24-25页 |
·薄膜制备 | 第25-26页 |
·薄膜测试与分析方法 | 第26-30页 |
·X 射线衍射分析(XRD) | 第26-27页 |
·扫描电子显微镜(SEM) | 第27-28页 |
·电学性能分析 | 第28-30页 |
·小结 | 第30-31页 |
第3章 BNT 薄膜微结构与铁电性分析 | 第31-41页 |
·BNT 薄膜结构分析 | 第31-32页 |
·BNT 薄膜SEM 形貌分析 | 第32-34页 |
·BNT 薄膜电学性能 | 第34-36页 |
·I-V 曲线 | 第34-35页 |
·P-V 曲线 | 第35-36页 |
·掺杂比例对BNT 薄膜铁电性能影响 | 第36-37页 |
·退火环境对BNT 薄膜铁电性能影响 | 第37-39页 |
·不同退火气氛对BNT 铁电性能的影响 | 第38页 |
·不同退火温度对BNT 铁电性能的影响 | 第38-39页 |
·小结 | 第39-41页 |
第4章 铁电薄膜的频率依赖关系 | 第41-49页 |
·频率依赖关系 | 第41-43页 |
·频率依赖关系研究现状 | 第41-42页 |
·基于电滞回线模型的频率依赖关系研究 | 第42-43页 |
·BNT 薄膜频率依赖特性 | 第43-44页 |
·BZT-PZT 薄膜频率依赖特性 | 第44-48页 |
·小结 | 第48-49页 |
第5章 工作总结与展望 | 第49-51页 |
·论文总结 | 第49页 |
·工作展望 | 第49-51页 |
参考文献 | 第51-56页 |
致谢 | 第56-57页 |
攻读硕士学位期间发表的论文和专利 | 第57页 |