铁电薄膜残余应力X射线衍射测试方法研究
| 摘要 | 第1-5页 |
| ABSTRACT | 第5-9页 |
| 第1章 绪论 | 第9-21页 |
| ·铁电薄膜背景综述 | 第9-15页 |
| ·铁电薄膜发展历史 | 第9-11页 |
| ·铁电薄膜的性质和应用 | 第11-12页 |
| ·铁电薄膜的制备方法 | 第12-13页 |
| ·锆钛酸铅铁电体 | 第13-15页 |
| ·薄膜中的残余应力 | 第15-17页 |
| ·薄膜残余应力的来源 | 第15-16页 |
| ·残余应力对铁电薄膜性能的影响 | 第16-17页 |
| ·铁电薄膜残余应力的研究现状 | 第17页 |
| ·X 射线衍射方法原理及设备 | 第17-19页 |
| ·本论文的选题依据和主要内容 | 第19-21页 |
| ·本文的选题依据 | 第20页 |
| ·本文的主要工作 | 第20-21页 |
| 第2章 铁电薄膜残余应力的测试方法 | 第21-35页 |
| ·薄膜残余应力常用测试方法介绍 | 第21-23页 |
| ·X 射线衍射方法 | 第23-33页 |
| ·传统sin~ 2ψ 法 | 第23-27页 |
| ·扩展sin~ 2ψ法 | 第27-29页 |
| ·取向平均模型方法 | 第29-33页 |
| ·X 射线衍射方法的改进思路 | 第33-35页 |
| ·几种已有的X 射线衍射方法的局限性 | 第33-34页 |
| ·改进思路 | 第34-35页 |
| 第3章 单胞应力模型下铁电薄膜的残余应力 | 第35-48页 |
| ·模型的建立 | 第35-40页 |
| ·薄膜界面处单胞的应变 | 第35-37页 |
| ·用压电本构方程由应变求解界面处单胞的应力 | 第37-38页 |
| ·不同取向单胞应力的坐标转换 | 第38-39页 |
| ·应力取向平均得到薄膜界面处的平均应力 | 第39页 |
| ·由应力沿厚度方向的分布函数计算薄膜表面的应力 | 第39-40页 |
| ·用单胞应力模型测算PZT 铁电薄膜的残余应力 | 第40-44页 |
| ·PZT 铁电薄膜样品的制备、测量和参数准备 | 第40-42页 |
| ·MOD 法制备的薄膜样品的残余应力计算 | 第42-43页 |
| ·PLD 法制备的薄膜样品的残余应力计算 | 第43-44页 |
| ·单胞应力模型计算结果和传统方法的结果对比 | 第44-47页 |
| ·本章小结 | 第47-48页 |
| 第4章 离面应变模型下铁电薄膜的残余应力 | 第48-61页 |
| ·模型的建立 | 第48-52页 |
| ·多晶薄膜的X 射线衍射 | 第48-50页 |
| ·薄膜中特定取向的离面应变 | 第50页 |
| ·由离面应变通过应力应变关系计算面内应力 | 第50-51页 |
| ·用应力取向平均计算薄膜的平均残余应力 | 第51-52页 |
| ·用离面应变模型测算PZT 铁电薄膜的残余应力 | 第52-55页 |
| ·样品的测量和参数准备 | 第52-53页 |
| ·计算结果和讨论 | 第53-55页 |
| ·用离面应变模型测算BNT 铁电薄膜的残余应力 | 第55-59页 |
| ·样品制备、测量和参数准备 | 第56-57页 |
| ·计算结果和讨论 | 第57-59页 |
| ·离面应变模型和单胞应力模型的比较 | 第59-60页 |
| ·本章小结 | 第60-61页 |
| 第5章 总结和展望 | 第61-63页 |
| 论文总结 | 第61页 |
| 工作展望 | 第61-63页 |
| 参考文献 | 第63-67页 |
| 致谢 | 第67-68页 |
| 攻读硕士期间取得成果及发表的论文 | 第68页 |
