| 摘要 | 第5-7页 |
| ABSTRACT | 第7-9页 |
| 第1章 绪论 | 第13-27页 |
| 1.1 能源发展综述 | 第13页 |
| 1.2 核能发展简介 | 第13-15页 |
| 1.2.1 核能发展状况 | 第13-14页 |
| 1.2.2 核聚变能的发展概述 | 第14-15页 |
| 1.3 面向等离子体材料(PFMs) | 第15-18页 |
| 1.3.1 面向等离子体材料的发展 | 第15-16页 |
| 1.3.2 钨基材料的简介 | 第16-18页 |
| 1.4 辐照损伤 | 第18-21页 |
| 1.4.1 辐照损伤的基础 | 第18页 |
| 1.4.2 辐照损伤的过程 | 第18-19页 |
| 1.4.3 辐照效应 | 第19-20页 |
| 1.4.4 氦脆问题 | 第20-21页 |
| 1.5 纳米晶材料 | 第21-22页 |
| 1.6 金属材料中氦的引入的方法 | 第22-23页 |
| 1.7 氦泡的生长机制 | 第23-25页 |
| 1.8 本章小结 | 第25-27页 |
| 第2章 研究方案设计和仪器表征手段 | 第27-49页 |
| 2.1 实验方案 | 第27-30页 |
| 2.1.1 实验方案设计 | 第27-28页 |
| 2.1.2 实验方案的具体内容 | 第28-29页 |
| 2.1.3 实验目的 | 第29-30页 |
| 2.2 X射线衍射 | 第30-31页 |
| 2.2.1 X射线衍射仪的结构 | 第30-31页 |
| 2.2.2 X射线衍射仪的工作原理及应用 | 第31页 |
| 2.3 场发射扫描电子电镜 | 第31-33页 |
| 2.4 纳米压痕仪 | 第33-34页 |
| 2.5 热脱附谱 | 第34-36页 |
| 2.6 透射电子显微镜 | 第36-37页 |
| 2.7 离子减薄仪 | 第37-39页 |
| 2.8 真空封管设备 | 第39页 |
| 2.9 电火花线切割机 | 第39-40页 |
| 2.10 磁控溅射仪 | 第40-43页 |
| 2.10.1 磁控溅射的原理 | 第40-41页 |
| 2.10.2 影响磁控溅射镀膜效率的因素 | 第41-42页 |
| 2.10.3 磁控溅射在核材料方面的应用 | 第42-43页 |
| 2.11 薄膜内耗仪 | 第43-48页 |
| 2.11.1 薄膜内耗 | 第43-45页 |
| 2.11.2 薄膜内耗仪的测量原理 | 第45-46页 |
| 2.11.3 薄膜内耗仪的结构 | 第46-48页 |
| 2.12 本章小结 | 第48-49页 |
| 第3章 射频磁控溅射制备含氦W薄膜及其性能研究 | 第49-68页 |
| 3.1 衬底和靶材的选择 | 第49页 |
| 3.2 射频磁控溅射制备含氦钨膜 | 第49-50页 |
| 3.2.1 制备钨膜的实验过程 | 第49-50页 |
| 3.3 不同He/Ar比例对含氦W膜的影响 | 第50-55页 |
| 3.3.1 不同He/Ar比例对W薄膜晶体结构的影响 | 第50-52页 |
| 3.3.2 不同He/Ar例对W薄膜微观形貌的影响 | 第52-53页 |
| 3.3.3 不同He/Ar比例对W薄膜硬度的影响 | 第53-54页 |
| 3.3.4 不同He/Ar比例对He脱附行为的影响 | 第54页 |
| 3.3.5 不同He/Ar比例下制备的W膜中氦泡的组成和形貌 | 第54-55页 |
| 3.4 退火对含氦W膜的影响 | 第55-66页 |
| 3.4.1 退火对含氦W膜结构和形貌的变化 | 第56-60页 |
| 3.4.2 退火引起硬度的变化 | 第60-62页 |
| 3.4.3 氦泡的演变 | 第62-64页 |
| 3.4.4 氦的脱附行为 | 第64-66页 |
| 3.5 本章小结 | 第66-68页 |
| 第4章 射频流磁控溅射制备含氦W-Y_2O_3薄膜及其性能研究 | 第68-77页 |
| 4.1 靶材的选择 | 第68-69页 |
| 4.2 实验过程 | 第69-70页 |
| 4.3 不含氦的W-Y_2O_3薄膜的结构 | 第70-71页 |
| 4.4 含氦的W-Y_2O_3薄膜的结构 | 第71-72页 |
| 4.5 不同He/Ar比例制得的含氦W-Y_2O_3薄膜中氦泡的形貌和分布 | 第72-74页 |
| 4.6 退火后的含氦W-Y_2O_3薄膜的形貌结构 | 第74页 |
| 4.7 含氦W-Y_2O_3薄膜的内耗测量 | 第74-76页 |
| 4.8 本章小结 | 第76-77页 |
| 第5章 附: FeCrNi薄膜的氦脱附行为及氦泡的形成和演变研究 | 第77-87页 |
| 5.1 绪论 | 第77-78页 |
| 5.2 实验过程 | 第78-79页 |
| 5.3 不同He/Ar比例制备的FeCrNi薄膜的晶体结构和微观形貌 | 第79-81页 |
| 5.4 不同He/Ar比例制备的FeCrNi薄膜的氦脱附行为 | 第81-83页 |
| 5.5 含氦FeCrNi薄膜中氦泡的组成和演变 | 第83-86页 |
| 5.6 本章小结 | 第86-87页 |
| 第6章 全文总结和展望 | 第87-89页 |
| 6.1 全文总结 | 第87-88页 |
| 6.2 未来展望 | 第88-89页 |
| 参考文献 | 第89-100页 |
| 致谢 | 第100-101页 |
| 在读期间发表的学术论文与取得的其他研究成果 | 第101页 |
