| 摘要 | 第8-10页 |
| Abstract | 第10-11页 |
| 第一章 绪论 | 第12-27页 |
| 1.1 ZnO半导体的结构与性质 | 第12-16页 |
| 1.1.1 ZnO半导体的结构 | 第12-13页 |
| 1.1.2 ZnO半导体的性质 | 第13-14页 |
| 1.1.3 ZnO晶体的缺陷特征 | 第14-16页 |
| 1.2 ZnO稀磁半导体磁性机理 | 第16-20页 |
| 1.2.1 RKKY理论 | 第16-17页 |
| 1.2.2 平均场理论 | 第17-18页 |
| 1.2.3 双交换理论 | 第18页 |
| 1.2.4 束缚磁极子(BMP)理论 | 第18-20页 |
| 1.3 ZnO基稀磁半导体材料研究现状 | 第20-23页 |
| 1.4 本论文的研究思路及主要内容 | 第23-24页 |
| 1.4.1 本论文的研究思路 | 第23-24页 |
| 1.4.2 本论文的主要内容 | 第24页 |
| 参考文献 | 第24-27页 |
| 第二章 Fe掺杂ZnO基稀磁半导的制备和表征手段 | 第27-37页 |
| 2.1 Fe掺杂ZnO基稀磁半导体的制备 | 第27-30页 |
| 2.1.1 磁控溅射原理 | 第27-28页 |
| 2.1.2 磁控溅射技术优点 | 第28页 |
| 2.1.3 设备和实验工艺 | 第28-30页 |
| 2.2 Fe掺杂ZnO稀磁半导体的表征手段 | 第30-36页 |
| 2.2.1 X射线衍射(XRD) | 第30-33页 |
| 2.2.2 扫描电子显微镜(SEM) | 第33-34页 |
| 2.2.3 振动样品磁强计(VSM) | 第34-36页 |
| 参考文献 | 第36-37页 |
| 第三章 Fe掺杂量对ZnO薄膜微结构和铁磁性能的影响 | 第37-47页 |
| 3.1 实验工艺与基本参数 | 第37页 |
| 3.2 Zn_(1-x)Fe_xO薄膜的微结构分析 | 第37-39页 |
| 3.3 Zn_(1-x)Fe_xO薄膜的形貌分析 | 第39-41页 |
| 3.4 Zn_(1-x)Fe_xO薄膜的EDS分析 | 第41-42页 |
| 3.5 Zn_(1-x)Fe_xO薄膜的化学价态分析 | 第42-43页 |
| 3.6 Zn_(1-x)Fe_xO薄膜的室温铁磁性能的分析 | 第43-45页 |
| 3.7 本章小结 | 第45页 |
| 参考文献 | 第45-47页 |
| 第四章 退火温度对ZnO:Fe薄膜微结构和铁磁性能的影响 | 第47-54页 |
| 4.1 制备工艺与基本参数 | 第47页 |
| 4.2 退火温度对ZnO:Fe薄膜的微结的影响 | 第47-49页 |
| 4.3 退火温度对ZnO:Fe薄膜的形貌的影响 | 第49-50页 |
| 4.4 退火温度对ZnO:Fe薄膜的铁磁性的影响 | 第50-52页 |
| 4.5 本章小结 | 第52-53页 |
| 参考文献 | 第53-54页 |
| 第五章 退火气氛对ZnO:Fe薄膜微结构和铁磁性能的影响 | 第54-61页 |
| 5.1 制备工艺与基本参数 | 第54页 |
| 5.2 退火气氛对ZnO:Fe薄膜的微结的影响 | 第54-56页 |
| 5.3 退火气氛对ZnO:Fe薄膜形貌的影响 | 第56-57页 |
| 5.4 退火气氛对ZnO:Fe薄膜铁磁性的影响 | 第57-59页 |
| 5.5 本章小结 | 第59页 |
| 参考文献 | 第59-61页 |
| 第六章 总结与展望 | 第61-63页 |
| 6.1 总结 | 第61-62页 |
| 6.2 展望 | 第62-63页 |
| 致谢 | 第63-64页 |
| 附录：攻读硕士学位期间发表的论文 | 第64页 |
