| 摘要 | 第4-5页 |
| ABSTRACT | 第5-6页 |
| 图清单 | 第10-12页 |
| 表清单 | 第12-13页 |
| 第一章 绪论 | 第13-23页 |
| 1.1 研究背景 | 第13-14页 |
| 1.2 高温铌硅化合物的性能特点 | 第14-16页 |
| 1.2.1 铌硅二元相图 | 第14页 |
| 1.2.2 NbSi_2的性能特点及氧化行为 | 第14-15页 |
| 1.2.3 Nb_5Si_3的晶体结构和性能 | 第15-16页 |
| 1.3 提高 Nb_5Si_3性能的措施 | 第16-18页 |
| 1.3.1 合金化 | 第16-17页 |
| 1.3.2 复合化 | 第17-18页 |
| 1.3.3 纳米化 | 第18页 |
| 1.4 Nb_5Si_3材料的理论研究方法及进展 | 第18-20页 |
| 1.4.1 Nb_5Si_3的理论研究方法 | 第18-19页 |
| 1.4.2 Nb_5Si_3的理论研究现状 | 第19-20页 |
| 1.5 Nb_5Si_3及其复合材料的制备技术 | 第20-22页 |
| 1.5.1 电弧熔炼 | 第20页 |
| 1.5.2 热压烧结和热等静压烧结 | 第20-21页 |
| 1.5.3 光学悬浮单晶生长技术 | 第21页 |
| 1.5.4 自蔓延高温合成技术 | 第21页 |
| 1.5.5 放电等离子烧结(SPS)技术 | 第21页 |
| 1.5.6 等离子溅射沉积 | 第21-22页 |
| 1.6 研究目的、思路及内容 | 第22-23页 |
| 第二章 理论基础与计算方法 | 第23-34页 |
| 2.1 引言多粒子体系的薛定谔方程 | 第23-26页 |
| 2.1.1 Born-Oppenheimer 近似—绝热近似 | 第24页 |
| 2.1.2 Hartree-Fock 近似—轨道近似 | 第24-26页 |
| 2.2 密度泛函理论 | 第26-29页 |
| 2.2.1 Hohenberg—Kohn 定理 | 第26页 |
| 2.2.2 Kohn-Sham 方程的自洽计算 | 第26-27页 |
| 2.2.3 局域密度近似(LDA)和广义梯度近似(GGA) | 第27-28页 |
| 2.2.4 Kohn-Sham 方程的自洽计算 | 第28-29页 |
| 2.3 热力学及弹性理论 | 第29-34页 |
| 2.3.1 形成能和结合能 | 第29-30页 |
| 2.3.2 力学性能 | 第30-34页 |
| 第三章 合金化对α-Nb_5Si_3力学性能影响的第一性原理研究 | 第34-47页 |
| 3.1 引言 | 第34页 |
| 3.2 计算模型与参数 | 第34-36页 |
| 3.2.1 计算模型 | 第34-35页 |
| 3.2.2 计算参数 | 第35-36页 |
| 3.3 计算结果及讨论 | 第36-45页 |
| 3.3.1 结构稳定性 | 第36-38页 |
| 3.3.2 弹性模量 | 第38-41页 |
| 3.3.3 韧/脆性 | 第41-43页 |
| 3.3.4 派-纳力τP-N | 第43-45页 |
| 3.4 本章小结 | 第45-47页 |
| 第四章 合金化对α-Nb_5Si_3电子结构影响的第一性原理研究 | 第47-64页 |
| 4.1 引言 | 第47页 |
| 4.2 态密度图 | 第47-57页 |
| 4.2.1 总态密度图（TDOS） | 第47-48页 |
| 4.2.2 分波态密度图（PDOS） | 第48-57页 |
| 4.3 电荷密度图 | 第57-59页 |
| 4.4 Mulliken 布居数 | 第59-63页 |
| 4.5 本章小结 | 第63-64页 |
| 第五章 Nb_(5-x)CrxSi_3涂层的制备与性能研究 | 第64-75页 |
| 5.1 引言 | 第64页 |
| 5.2 实验材料及实验设备介绍 | 第64-67页 |
| 5.2.1 基体材料 | 第64页 |
| 5.2.2 靶材的制备 | 第64-65页 |
| 5.2.3 实验设备及仪器 | 第65-66页 |
| 5.2.4 涂层的制备 | 第66-67页 |
| 5.3 Nb_(5-x)Cr_xSi_3(x = 0，0.5)纳米晶涂层的组织分析 | 第67-69页 |
| 5.3.1 Nb_(5-x)Cr_xSi_3(x = 0，0.5) 纳米晶涂层的 XRD 分析 | 第67页 |
| 5.3.2 Nb_(5-x)CrxSi_3(x = 0，0.5) 纳米晶涂层横截面的 SEM 分析 | 第67-69页 |
| 5.4 Nb_(5-x)CrxSi_3(X = 0，0.5) 纳米晶涂层的韧性测试 | 第69-70页 |
| 5.5 Nb_(5-x)CrxSi_3(X = 0，0.5) 纳米晶涂层的腐蚀性能 | 第70-74页 |
| 5.5.1 测试仪器及方法介绍 | 第70-71页 |
| 5.5.2 开路电位(OCP)-时间曲线 | 第71页 |
| 5.5.3 动电位极化曲线(Tafel 曲线) | 第71-72页 |
| 5.5.4 交流阻抗谱(EIS) | 第72-74页 |
| 5.6 本章小结 | 第74-75页 |
| 第六章 结论 | 第75-77页 |
| 参考文献 | 第77-85页 |
| 致谢 | 第85-86页 |
| 在学期间的研究成果及发表的学术论文 | 第86页 |
