| 摘要 | 第3-5页 |
| Abstract | 第5-7页 |
| 第一章 绪论 | 第11-37页 |
| 1.1 前言 | 第11-14页 |
| 1.2 氧化铟锡简介 | 第14-16页 |
| 1.3 有机电致发光器件简介 | 第16-23页 |
| 1.3.1 有机电致发光器件的研究进展 | 第16-19页 |
| 1.3.2 有机电致发光器件的结构 | 第19-20页 |
| 1.3.3 OLED器件的工作原理 | 第20-23页 |
| 1.4 ITO表面处理工程 | 第23-27页 |
| 1.4.1 有机/ITO界面修饰意义 | 第23-24页 |
| 1.4.2 ITO表面修饰方法与问题 | 第24-27页 |
| 1.5 本课题研究的意义、目的和内容 | 第27-30页 |
| 参考文献 | 第30-37页 |
| 第二章 PⅢ理论及实验装置 | 第37-58页 |
| 2.1 PⅢ技术概述 | 第37-40页 |
| 2.2 PⅢ鞘层理论基础 | 第40-48页 |
| 2.2.1 德拜屏蔽与鞘层 | 第40-42页 |
| 2.2.2 无碰撞鞘层模型 | 第42-43页 |
| 2.2.3 板型鞘层与蔡尔德定律的导出 | 第43-44页 |
| 2.2.4 PⅢ处理过程中的鞘层演变 | 第44-45页 |
| 2.2.5 注入剂量与注入深度的讨论 | 第45-48页 |
| 2.3 PⅢ实验装置 | 第48-56页 |
| 2.3.1 真空系统 | 第50-51页 |
| 2.3.2 气路控制系统 | 第51-52页 |
| 2.3.3 射频等离子体源 | 第52页 |
| 2.3.4 高压脉冲偏压源 | 第52-55页 |
| 2.3.5 手套箱超级净化系统 | 第55-56页 |
| 参考文献 | 第56-58页 |
| 第三章 样品表面组分与结构分析表征手段 | 第58-69页 |
| 3.1 X射线光电子能谱 | 第58-60页 |
| 3.2 X射线衍射 | 第60-62页 |
| 3.3 原子力显微镜 | 第62-63页 |
| 3.4 四探针测量仪 | 第63-65页 |
| 3.5 紫外可见分光光度计 | 第65-66页 |
| 3.6 开尔文探针 | 第66-67页 |
| 参考文献 | 第67-69页 |
| 第四章 各因素对ITO薄膜PⅢ表面处理的影响 | 第69-99页 |
| 4.1 未经处理的ITO薄膜表面特性 | 第69-71页 |
| 4.1.1 基片及其预处理 | 第69页 |
| 4.1.2 未经等离子体处理的ITO表面化学成分 | 第69-71页 |
| 4.2 气体种类对ITO表面成分的影响 | 第71-74页 |
| 4.2.1 工作气体种类影响实验设计 | 第71-72页 |
| 4.2.2 XPS表征结果 | 第72-74页 |
| 4.2.3 注入气体氛围影响小结 | 第74页 |
| 4.3 偏压大小的影响 | 第74-77页 |
| 4.3.1 偏压大小实验设计 | 第74-75页 |
| 4.3.2 XPS表征结果及分析 | 第75-77页 |
| 4.3.3 注入偏压影响小结 | 第77页 |
| 4.4 处理时间的影响 | 第77-88页 |
| 4.4.1 实验设计 | 第77-78页 |
| 4.4.2 注入时间对ITO各表面性能的影响 | 第78-87页 |
| 4.4.2.1 X射线光电子能谱分析 | 第78-82页 |
| 4.4.2.2 注入时间对ITO薄膜结构的影响 | 第82-83页 |
| 4.4.2.3 注入时间对ITO薄膜光学性能的影响 | 第83-84页 |
| 4.4.2.4 注入时间对ITO薄膜电学性能的影响 | 第84-86页 |
| 4.4.2.5 注入时间对ITO薄膜表面形貌的影响 | 第86-87页 |
| 4.4.3 处理时间影响小结 | 第87-88页 |
| 4.5 脉冲宽度的影响 | 第88-95页 |
| 4.5.1 实验参数的进一步优化及实验设计 | 第88-89页 |
| 4.5.2 脉冲宽度对ITO各表面性能的影响 | 第89-94页 |
| 4.5.2.1 XPS能谱分析与功函数直接测量 | 第89-91页 |
| 4.5.2.2 脉宽对ITO晶体结构的影响 | 第91-92页 |
| 4.5.2.3 脉宽对ITO表面形貌的影响 | 第92-94页 |
| 4.5.3 脉冲宽度影响小结 | 第94-95页 |
| 4.6 本章总结 | 第95-96页 |
| 参考文献 | 第96-99页 |
| 第五章 ITO功函数变化机理及处理时效性研究 | 第99-119页 |
| 5.1 前言 | 第99-101页 |
| 5.2 ITO表面功函数 | 第101-103页 |
| 5.3 实验验证 | 第103-111页 |
| 5.4 处理时效性的研究 | 第111-113页 |
| 5.5 本章总结 | 第113-115页 |
| 参考文献 | 第115-119页 |
| 第六章 全文总结与展望 | 第119-122页 |
| 6.1 本论文工作的创新性及主要结论 | 第119-121页 |
| 6.2 未来工作展望 | 第121-122页 |
| 致谢 | 第122-124页 |
| 在校期间科研成果 | 第124-125页 |
