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金属表面硅烷化处理及其耐蚀性研究

摘要第4-5页
ABSTRACT第5页
第一章 绪论第9-25页
    1.1 金属腐蚀与防护概述第9-10页
        1.1.1 金属腐蚀的类型第9页
        1.1.2 金属腐蚀的防护第9-10页
    1.2 传统金属表面处理工艺第10页
    1.3 硅烷偶联剂简述第10-12页
    1.4 硅烷偶联剂的结构及其作用机理第12-15页
        1.4.1 化学键合理论第12-14页
            1.4.1.1 硅烷偶联剂对金属材料的作用机理第13页
            1.4.1.2 硅烷偶联剂对无机非金属材料的作用机理第13-14页
            1.4.1.3 硅烷偶联剂对有机物的作用机理第14页
        1.4.2 表面浸润理论(表面能理论)第14页
        1.4.3 物理吸附理论第14-15页
        1.4.4 可逆水解平衡理论第15页
    1.5 目前硅烷化处理的研究进展第15-17页
        1.5.1 两步法工艺制备硅烷膜第15-16页
        1.5.2 纳米粒子掺杂改性制备硅烷膜第16页
        1.5.3 电化学沉积法制备硅烷膜第16-17页
        1.5.4 稀土金属盐掺杂改性制备硅烷膜第17页
    1.6 金属表面防腐涂层处理的研究进展第17-23页
        1.6.1 有机涂层的防护机制第17-18页
            1.6.1.1 电化学作用第17页
            1.6.1.2 屏障作用第17页
            1.6.1.3 涂层的附着力第17-18页
        1.6.2 涂层的失效与涂层下金属的腐蚀第18-19页
        1.6.3 有机涂层的研究与评价方法第19-23页
            1.6.3.1 常规检测法第19-20页
            1.6.3.2 电化学评价方法第20-22页
            1.6.3.3 非电化学评价方法第22-23页
    1.7 本课题研究的意义及内容第23-25页
第二章 实验方法第25-30页
    2.1 金属基体及其化学组成第25-26页
        2.1.1 铝合金第25页
        2.1.2 镀锡薄钢板(马口铁)第25-26页
    2.2 化学试剂和有机涂料第26-27页
        2.2.1 硅烷试剂第26页
            2.2.1.1 BTSE第26页
            2.2.1.2 KH6918第26页
            2.2.1.3 KH17018第26页
            2.2.1.4 KH56018第26页
        2.2.2 其它试剂第26-27页
        2.2.3 有机涂料第27页
    2.3 膜层的制备第27页
    2.4 实验仪器和表征方法第27-30页
        2.4.1 实验仪器第27页
        2.4.2 表征方法第27-30页
            2.4.2.1 电化学工作站第27-28页
            2.4.2.2 扫描电子显微镜(SEM)第28页
            2.4.2.3 X 射线光电子能谱仪(XPS)第28-29页
            2.4.2.4 傅立叶变换红外光谱(FTIR)第29页
            2.4.2.5 膜层厚度测试第29-30页
第三章 铝合金表面 BTSE 硅烷膜层制备及耐蚀性研究第30-44页
    3.1 引言第30页
    3.2 传统浸涂法制备硅烷膜第30-31页
        3.2.1 工作电极的制备第30页
        3.2.2 金属基体表面预处理第30页
        3.2.3 硅烷溶液的配制第30-31页
        3.2.4 BTSE 硅烷膜层的制备第31页
    3.3 膜厚测试第31-32页
    3.4 表面形貌分析第32-33页
    3.5 表面成分分析第33-34页
    3.6 分子结构分析第34-36页
    3.7 耐蚀性分析第36-42页
        3.7.1 极化曲线第36-38页
        3.7.2 电化学阻抗测试第38-42页
    3.8 本章小结第42-44页
第四章 铝合金表面 KH69/KH170 混合硅烷膜层制备及耐蚀性研究第44-55页
    4.1 引言第44页
    4.2 传统浸涂法制备硅烷膜第44-45页
        4.2.1 工作电极的制备第44页
        4.2.2 金属基体表面预处理第44-45页
        4.2.3 硅烷溶液的配制第45页
        4.2.4 混合硅烷膜层的制备第45页
    4.3 膜厚测试第45-46页
    4.4 表面形貌分析第46页
    4.5 表面成分分析第46-49页
    4.6 分子结构分析第49-50页
    4.7 耐蚀性分析第50-54页
        4.7.1 极化测试第50-52页
        4.7.2 电化学阻抗谱测试第52-54页
    4.8 本章小结第54-55页
第五章 KH560 硅烷试剂直接改性环氧涂层的制备及其特性研究第55-59页
    5.1 引言第55页
    5.2 KH560 硅烷试剂改性环氧涂层的制备第55-56页
    5.3 膜厚测试第56页
    5.4 涂层吸水率第56-58页
    5.5 本章小结第58-59页
第六章 全文结论第59-61页
参考文献第61-67页
发表论文及参加科研情况说明第67-68页
致谢第68页

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