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激光清洗光学元件表面污染的机理与应用研究

摘要第5-6页
ABSTRACT第6-7页
第一章 绪论第10-19页
    1.1 研究工作的背景与意义第10-14页
        1.1.1 技术需求第10-13页
        1.1.2 研究意义和目的第13-14页
    1.2 激光清洗国内外研究历史与现状第14-18页
        1.2.1 国外发展历程第14-17页
        1.2.2 国内激光清洗技术研究现状第17-18页
    1.3 本论文的研究内容与结构安排第18-19页
第二章 激光清洗光学元件表面污染物的理论基础第19-36页
    2.1 颗粒污染物与基片粘附力第19-26页
        2.1.1 范德华力第19-22页
        2.1.2 其它几种吸附力形式第22-23页
        2.1.3 颗粒的吸附形变第23-26页
    2.2 干式激光清洗的原理及其理论模型第26-29页
        2.2.1 干式激光清洗机理简介第26-27页
        2.2.2 干式激光清洗的理论模型第27-29页
    2.3 湿式激光清洗的原理及其理论模型第29-31页
    2.4 激光诱导等离子冲击波清洗的原理及其理论模型第31-34页
        2.4.1 激光等离子冲击波清洗的机理简介第31页
        2.4.2 激光等离子冲击波清洗的理论模型第31-34页
    2.5 本章小结第34-36页
第三章 激光直接辐照清洗K9玻璃表面污染物第36-45页
    3.1 实验准备和操作第36-37页
    3.2 实验设备第37-38页
    3.3 355nm激光清洗K9表面灰尘和Al2O3第38-44页
        3.3.1 清洗前的检测效果第39-41页
        3.3.2 实验过程及结果第41-44页
    3.4 本章小结第44-45页
第四章 激光诱导等离子体冲击波清洗K9玻璃表面污染物第45-53页
    4.1 实验操作第45-46页
    4.2 实验结果及分析第46-51页
    4.3 本章小结第51-53页
第五章 射频等离子清洗K9玻璃表面污染物第53-64页
    5.1 等离子清洗的基本原理第53页
    5.2 实验准备和操作第53-56页
    5.3 等离子清洗K9玻璃表面污染物第56-62页
        5.3.1 灰尘颗粒的清洗第56-60页
        5.3.2 机油清洗第60-62页
    5.4 本章小结第62-64页
第六章 全文总结与展望第64-65页
致谢第65-66页
参考文献第66-70页
攻读硕士学位期间取得的成果第70-71页

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