| 摘要 | 第5-6页 |
| Abstract | 第6-7页 |
| 目录 | 第8-12页 |
| 第1章 绪论 | 第12-22页 |
| 1.1 引言 | 第12页 |
| 1.2 磁控溅射 | 第12-14页 |
| 1.2.1 磁控溅射的分类 | 第12-13页 |
| 1.2.2 磁控溅射技术的应用 | 第13-14页 |
| 1.3 硬质薄膜的概述 | 第14-16页 |
| 1.3.1 硬质薄膜的最新发展 | 第14-15页 |
| 1.3.2 硬质薄膜的分类 | 第15-16页 |
| 1.4 薄膜生长机理 | 第16-18页 |
| 1.4.1 临界核的形成 | 第16-17页 |
| 1.4.2 岛的成核和长大 | 第17页 |
| 1.4.3 沟道薄膜的形成 | 第17-18页 |
| 1.4.4 连续膜的形成 | 第18页 |
| 1.5 CrN薄膜的性能和制备方法 | 第18-20页 |
| 1.5.1 CrN薄膜的性能 | 第18页 |
| 1.5.2 CrN薄膜的制备方法 | 第18-20页 |
| 1.6 Ti-Si-N薄膜的研究进展 | 第20-21页 |
| 1.7 本研究的目的意义与主要内容 | 第21-22页 |
| 第2章 实验原理与设备 | 第22-35页 |
| 2.1 实验原理 | 第22-25页 |
| 2.1.1 溅射原子碰撞机理 | 第22-23页 |
| 2.1.2 直流反应磁控溅射原理 | 第23-25页 |
| 2.2 实验设备 | 第25-26页 |
| 2.3 基片的前处理 | 第26-27页 |
| 2.4 过渡层的选择 | 第27页 |
| 2.5 靶材的制备 | 第27-29页 |
| 2.6 实验流程 | 第29-30页 |
| 2.7 薄膜性能表征 | 第30-35页 |
| 2.7.1 XRD物相分析 | 第30页 |
| 2.7.2 表面形貌分析 | 第30-31页 |
| 2.7.3 能量色散谱分析 | 第31页 |
| 2.7.4 显微硬度测试 | 第31页 |
| 2.7.5 耐磨性测试 | 第31-33页 |
| 2.7.6 透射电镜测试 | 第33-35页 |
| 第3章 Cr薄膜的制备及其性能研究 | 第35-42页 |
| 3.1 Cr薄膜的制备 | 第35页 |
| 3.2 温度对Cr薄膜性能的影响 | 第35-38页 |
| 3.2.1 温度对Cr薄膜表面形貌的影响 | 第35-36页 |
| 3.2.2 温度对Cr薄膜硬度的影响 | 第36-37页 |
| 3.2.3 不同基体温度Cr薄膜的XRD分析 | 第37-38页 |
| 3.3 Ar压强对Cr薄膜性能的影响 | 第38-40页 |
| 3.3.1 Ar压强对Cr薄膜表面形貌的影响 | 第38页 |
| 3.3.2 Ar压强对Cr薄膜硬度影响、 | 第38-39页 |
| 3.3.3 Ar压强对Cr薄膜沉积速率的影响 | 第39-40页 |
| 3.4 本章小结 | 第40-42页 |
| 第4章 CrN薄膜的制备及其性能研究 | 第42-49页 |
| 4.1 CrN薄膜的制备工艺 | 第42页 |
| 4.2 温度对CrN薄膜性能的影响 | 第42-44页 |
| 4.2.1 温度对CrN薄膜表面形貌的影响 | 第42-43页 |
| 4.2.2 温度对CrN薄膜硬度的影响 | 第43-44页 |
| 4.3 N_2分压对CrN薄膜性能的影响 | 第44-48页 |
| 4.3.1 不同N_2分压下CrN薄膜的XRD分析 | 第44-45页 |
| 4.3.2 N_2分压对CrN薄膜表面形貌的影响 | 第45-46页 |
| 4.3.4 N_2分压对CrN薄膜硬度的影响 | 第46-47页 |
| 4.3.5 N_2分压对CrN薄膜磨损性能的影响 | 第47-48页 |
| 4.4 本章小结 | 第48-49页 |
| 第5章 Ti-Si-N薄膜的制备及其性能研究 | 第49-67页 |
| 5.1 引言 | 第49页 |
| 5.2 Ti-Si-N薄膜的制备工艺 | 第49页 |
| 5.3 温度对Ti-Si-N薄膜硬度的影响 | 第49-51页 |
| 5.4 N_2分压对Ti-Si-N薄膜性能的影响 | 第51-56页 |
| 5.4.1 Ti-Si-N薄膜的颜色分析 | 第51-52页 |
| 5.4.2 不同N_2分压的Ti-Si-N薄膜的XRD分析 | 第52页 |
| 5.4.3 N_2分压对Ti-Si-N薄膜显微硬度的影响 | 第52-54页 |
| 5.4.4 N_2分压对Ti-Si-N薄膜耐磨性的影响 | 第54-56页 |
| 5.5 Si含量对Ti-Si-N薄膜性能的影响 | 第56-65页 |
| 5.5.1 靶功率Ti-Si-N薄膜中Si元素含量的影响 | 第56页 |
| 5.5.2 Si含量对Ti-Si-N薄膜显微硬度的影响 | 第56-58页 |
| 5.5.3 不同Si含量的Ti-Si-N薄膜的XRD分析 | 第58-61页 |
| 5.5.4 不同Si含量的Ti-Si-N薄膜的TEM分析 | 第61-63页 |
| 5.5.5 Si含量对Ti-Si-N薄膜的耐磨性影响分析 | 第63-65页 |
| 5.6 Ti-Si-N薄膜的超硬效应分析 | 第65-66页 |
| 5.7 本章小结 | 第66-67页 |
| 第6章 实验结论 | 第67-68页 |
| 参考文献 | 第68-72页 |
| 致谢 | 第72页 |
