大功率半导体激光器腔面钝化工艺研究
| 摘要 | 第4-5页 |
| Abstract | 第5页 |
| 第1章 绪论 | 第8-16页 |
| 1.1 半导体激光器的发展 | 第8-11页 |
| 1.2 半导体激光器的应用 | 第11-13页 |
| 1.3 论文研究的目的及内容 | 第13-16页 |
| 1.3.1 论文研究目的 | 第13-14页 |
| 1.3.2 论文研究的主要内容 | 第14-16页 |
| 第二章 半导体激光器的表面态 | 第16-28页 |
| 2.1 半导体激光器腔面的退化现象 | 第16-18页 |
| 2.2 表面态的来源及对器件的影响 | 第18-27页 |
| 2.3 本章小结 | 第27-28页 |
| 第三章 半导体激光器腔面钝化简介 | 第28-38页 |
| 3.1 半导体激光器腔面钝化概念 | 第28页 |
| 3.2 常用的几种评估腔面钝化效果的方法 | 第28-30页 |
| 3.3 钝化实验所需设备简介 | 第30-36页 |
| 3.3.1 真空系统 | 第31-32页 |
| 3.3.2 蒸发系统 | 第32-34页 |
| 3.3.3 膜层厚度控制系统 | 第34-35页 |
| 3.3.4 程序控制系统 | 第35-36页 |
| 3.4 本章小结 | 第36-38页 |
| 第4章 半导体激光器腔面钝化工艺研究 | 第38-44页 |
| 4.1 含硫溶液的湿法腐蚀钝化方法的研究 | 第38-39页 |
| 4.1.1 实验原理 | 第38-39页 |
| 4.1.2 实验过程 | 第39页 |
| 4.2 氮气+氩气等离子体干法钝化的方法研究 | 第39-43页 |
| 4.2.1 实验原理 | 第40-42页 |
| 4.2.2 实验过程 | 第42-43页 |
| 4.3 本章小结 | 第43-44页 |
| 第5章 结果与分析 | 第44-52页 |
| 5.1 含硫溶液的湿法腐蚀钝化实验结果及分析 | 第44-49页 |
| 5.2 氮气+氩气等离子体干法钝化结果及分析 | 第49-51页 |
| 5.3 本章小结 | 第51-52页 |
| 总结 | 第52-54页 |
| 参考文献 | 第54-58页 |
| 攻读硕士学位期间发表学术论文和申请专利情况 | 第58-60页 |
| 致谢 | 第60页 |
