| 摘要 | 第1-6页 |
| Abstract | 第6-12页 |
| 第一章 绪论 | 第12-32页 |
| ·石墨烯 | 第12-17页 |
| ·石墨烯的结构和性质 | 第12-15页 |
| ·石墨烯的制备方法 | 第15-17页 |
| ·氧化石墨烯 | 第17-22页 |
| ·氧化石墨烯的结构和性质 | 第17-18页 |
| ·氧化石墨烯的还原方法 | 第18-22页 |
| ·激光调控氧化石墨烯的研究进展 | 第22-30页 |
| ·连续激光还原氧化石墨烯薄膜 | 第22-24页 |
| ·脉冲激光还原氧化石墨烯薄膜 | 第24-25页 |
| ·激光还原氧化石墨烯水溶液 | 第25-26页 |
| ·激光还原氧化石墨烯的应用 | 第26-30页 |
| ·本文的研究思路和内容 | 第30-32页 |
| 第二章 飞秒激光图案化还原氧化石墨烯薄膜 | 第32-42页 |
| ·引言 | 第32页 |
| ·飞秒激光图案化还原氧化石墨烯 | 第32-34页 |
| ·氧化石墨烯的制备 | 第32-33页 |
| ·GO 薄膜的制备 | 第33页 |
| ·飞秒激光直写微图案 | 第33-34页 |
| ·还原 GO 导电微图形的表征和讨论 | 第34-38页 |
| ·微图形光学显微镜照片 | 第34-36页 |
| ·微图形扫描电子显微镜（SEM）照片 | 第36-37页 |
| ·微图形原子力显微镜（AFM）照片 | 第37-38页 |
| ·石墨烯微电路电学性质测试 | 第38-40页 |
| ·本章小结 | 第40-42页 |
| 第三章 飞秒激光调控氧化石墨烯禁带宽度 | 第42-58页 |
| ·引言 | 第42-43页 |
| ·氧化石墨烯禁带宽度的调节 | 第43-53页 |
| ·激光功率对氧化石墨烯含氧量的调节（XPS） | 第46-48页 |
| ·拉曼光谱（Raman Spectra） | 第48-49页 |
| ·第一性原理计算含氧量与禁带宽度的关系 | 第49-52页 |
| ·漫反射光谱测试禁带宽度与激光功率的关系 | 第52-53页 |
| ·场效应晶体管的激光加工 | 第53-56页 |
| ·器件制作工艺 | 第53-55页 |
| ·器件性能测试 | 第55-56页 |
| ·本章小结 | 第56-58页 |
| 第四章 飞秒激光辅助氧化石墨烯的还原及氮原子掺杂 | 第58-72页 |
| ·引言 | 第58-60页 |
| ·图案化氮原子掺杂 | 第60-62页 |
| ·光学显微镜照片 | 第60-61页 |
| ·原子力显微镜照片(AFM) | 第61-62页 |
| ·激光功率对掺杂浓度的影响 | 第62-68页 |
| ·激光功率对氮原子总量的影响 | 第62-65页 |
| ·激光功率对不同位置氮原子浓度的影响 | 第65-66页 |
| ·拉曼光谱 | 第66-67页 |
| ·第一性原理分析掺杂原理 | 第67-68页 |
| ·场效应晶体管的激光加工 | 第68-69页 |
| ·器件制作工艺 | 第68页 |
| ·器件性能测试 | 第68-69页 |
| ·本章小结 | 第69-72页 |
| 第五章 纳秒激光双光束干涉还原氧化石墨烯制备湿敏器件的研究 | 第72-86页 |
| ·引言 | 第72-73页 |
| ·氧化石墨烯薄膜多级结构 | 第73-79页 |
| ·多级结构薄膜的激光加工 | 第74页 |
| ·激光功率对薄膜形貌的影响 | 第74-76页 |
| ·激光功率对薄膜含氧量的影响 | 第76-79页 |
| ·柔性湿敏器件的激光加工 | 第79-83页 |
| ·器件制作与湿度发生装置 | 第79页 |
| ·激光功率对湿滞特性的影响 | 第79-80页 |
| ·激光功率对响应恢复特性的影响 | 第80-83页 |
| ·第一性原理分析 | 第83页 |
| ·本章小结 | 第83-86页 |
| 第六章 结论 | 第86-88页 |
| 参考文献 | 第88-96页 |
| 科研成果 | 第96-98页 |
| 作者简介 | 第98-100页 |
| 致谢 | 第100页 |