中文摘要 | 第1-7页 |
Abstract | 第7-14页 |
第一章 绪论 | 第14-73页 |
·溅射与薄膜生长 | 第14-18页 |
·等离子体的形成 | 第14页 |
·粒子轰击靶材 | 第14-16页 |
·原子的转移 | 第16页 |
·成核与生长 | 第16-18页 |
·薄膜的应力 | 第18-33页 |
·成核阶段应力的产生机制 | 第19-21页 |
·薄膜生长过程中拉应力的产生机制 | 第21-25页 |
·薄膜生长过程中压应力的产生 | 第25-28页 |
·外应力的产生机制 | 第28-30页 |
·薄膜应力的测量 | 第30-33页 |
·薄膜的硬度 | 第33-44页 |
·纳米压痕基础理论 | 第34-37页 |
·材料的表面接触形变 | 第37-39页 |
·在压痕过程中薄膜的断裂现象 | 第39-40页 |
·应力对硬度的影响 | 第40-44页 |
·薄膜的摩擦与磨损 | 第44-54页 |
·固相润滑原理 | 第44-46页 |
·碳基润滑材料 | 第46-48页 |
·润滑氧化物 | 第48页 |
·过渡族金属二硫化物(TMD) | 第48-50页 |
·薄膜的磨损 | 第50-54页 |
·Ⅳ-B 族过渡金属氮化物与碳化物 | 第54-60页 |
·氮化锆 | 第54-58页 |
·碳化锆基复合膜 | 第58-60页 |
·本文的选题依据与研究内容 | 第60-61页 |
参考文献 | 第61-73页 |
第二章 应力对 ZrN 薄膜择优取向以及相结构的影响 | 第73-90页 |
·前言 | 第73-74页 |
·实验 | 第74-75页 |
·实验条件 | 第74页 |
·表征方法 | 第74-75页 |
·实验结果 | 第75-82页 |
·微观结构和化学键 | 第75-81页 |
·应力与硬度 | 第81-82页 |
·分析与讨论 | 第82-85页 |
·择优取向和相结构 | 第82-85页 |
·硬度 | 第85页 |
·本章小结 | 第85页 |
参考文献 | 第85-90页 |
第三章 应力对 ZrN 薄膜硬度的影响 | 第90-113页 |
·前言 | 第90-92页 |
·实验方法 | 第92-93页 |
·结果与讨论 | 第93-108页 |
·残余应力与微观结构 | 第93-97页 |
·应力对硬度测试的影响 | 第97-108页 |
·本章小结 | 第108页 |
参考文献 | 第108-113页 |
第四章 ZrN/SiNx 薄膜的界面电子结构与硬度 | 第113-125页 |
·前言 | 第113页 |
·实验条件 | 第113-115页 |
·结果与讨论 | 第115-122页 |
·本章小结 | 第122-123页 |
参考文献 | 第123-125页 |
第五章 非晶碳含量和化学键态对 ZrC 薄膜结构和性能的影响 | 第125-154页 |
·前言 | 第125-126页 |
·实验与表征 | 第126-127页 |
·样品沉积 | 第126页 |
·微观结构、成分和形貌 | 第126页 |
·力学、摩擦学和电学性能 | 第126-127页 |
·结果与讨论 | 第127-145页 |
·微观结构、成分和形貌 | 第127-137页 |
·力学、摩擦学和电学性质 | 第137-145页 |
·本章小结 | 第145-146页 |
参考文献 | 第146-154页 |
第六章 ZrSiC 薄膜的制备及表征 | 第154-178页 |
·前言 | 第154-155页 |
·实验与表征 | 第155-156页 |
·样品沉积 | 第155页 |
·微观结构、成分和形貌 | 第155-156页 |
·力学、摩擦学和电学性能 | 第156页 |
·结果与讨论 | 第156-175页 |
·化学成分和化学键态 | 第156-161页 |
·硬度 | 第161-164页 |
·摩擦系数与磨损机制 | 第164-174页 |
·电阻率 | 第174-175页 |
·本章小结 | 第175-176页 |
参考文献 | 第176-178页 |
第七章 本文总结 | 第178-180页 |
攻读博士学位期间发表的学术论文 | 第180-182页 |
致谢 | 第182页 |