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同时针对SEU/SET/MBU的MOS集成电路抗辐射加固技术研究

摘要第1-9页
ABSTRACT第9-18页
1 综述第18-42页
   ·抗辐射加固的基本概念第18-34页
     ·辐射的基本概念第18-21页
     ·半导体器件的辐射效应第21-23页
     ·辐射的损伤机制第23-33页
     ·辐射的计量方式第33-34页
   ·研究现状第34-36页
     ·研究机构、会议和期刊第34页
     ·抗辐射电子学的研究发展趋势第34-36页
   ·集成电路加固方法概览第36-40页
     ·器件级加固第36-37页
     ·版图级加固第37-38页
     ·电路级加固第38-39页
     ·封装级加固第39-40页
   ·研究内容和意义第40页
   ·本文的研究范畴和章节安排第40-41页
   ·本章小结第41-42页
2 SRAM 针对SEU/MBU 的电路级加固第42-60页
   ·SRAM 的常用电路级加固方案第42-44页
   ·保护门技术及其在SRAM 抗辐射设计中的应用第44-45页
   ·SRAM 单元加固技术的仿真和分析第45-58页
     ·研究对象第45-48页
     ·SPICE 仿真的准备和步骤第48-49页
     ·仿真结果第49-56页
     ·SRAM 单元加固设计的仿真研究结论第56页
     ·SRAM 单元加固设计的电路面积代价分析第56-58页
   ·本章小结第58-60页
3 D 触发器针对SEU/SET 的电路级加固第60-74页
   ·D 触发器的常用电路级加固方案第60-62页
   ·保护门技术及其在D 触发器抗辐射设计中的应用第62-63页
   ·D 触发器加固技术的方针和分析第63-72页
     ·研究对象第63-65页
     ·SPICE 仿真的准备和步骤第65-66页
     ·仿真结果第66-70页
     ·建立时间、保持时间和传播延迟测试第70页
     ·D 触发器加固设计的仿真研究结论第70-71页
     ·D 触发器加固设计的电路面积代价分析第71-72页
   ·本章小结第72-74页
4 MOS 器件针对单粒子效应的版图级加固第74-106页
   ·阱电极加固的基本原理第74-78页
   ·NMOS 阱电极加固技术的仿真和分析第78-105页
     ·研究对象第78-79页
     ·TCAD 仿真的准备和步骤第79-81页
     ·TCAD 仿真的条件第81-93页
     ·SET 宽度和传播能力的仿真分析第93-99页
     ·阱电极优化方案的仿真分析第99-104页
     ·MOS 器件针对单粒子效应的版图级加固的仿真研究结论第104-105页
   ·本章小结第105-106页
5 SRAM 的电路级和版图级双重加固第106-114页
   ·引言第106页
   ·SRAM 的版图级加固第106-109页
     ·研究对象第106-107页
     ·TCAD 仿真的条件第107-108页
     ·仿真结果和研究结论第108-109页
   ·DICE-SRAM 的版图级加固第109-113页
     ·研究对象第109-110页
     ·TCAD 仿真条件第110-111页
     ·仿真结果和研究结论第111-113页
   ·本章小结第113-114页
6 全文总结第114-116页
参考文献第116-120页
致谢第120-122页
攻读硕士学位期间已发表或录用的论文第122页

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