| 摘要 | 第1-5页 |
| ABSTRACT | 第5-7页 |
| 目录 | 第7-9页 |
| 第一章 绪论 | 第9-17页 |
| ·课题研究的背景和目的 | 第9页 |
| ·激光与物质相互作用 | 第9-10页 |
| ·激光与半导体材料的相互作用研究进展 | 第10-16页 |
| ·激光与半导体的相互作用应用进展 | 第11-12页 |
| ·激光与半导体相互作用理论研究进展 | 第12-13页 |
| ·激光与半导体相互作用的实验研究 | 第13-16页 |
| ·论文主要工作 | 第16-17页 |
| 第二章 SOI材料的特性分析 | 第17-23页 |
| ·SOI器件在新型集成电路中的应用 | 第17页 |
| ·SOI材料的主流制备技术 | 第17-20页 |
| ·注氧隔离(SIMOX)技术 | 第17-18页 |
| ·键合再薄化(BESOI)技术 | 第18-19页 |
| ·智能剥离(Smart-cut)技术 | 第19-20页 |
| ·多孔硅外延层(ELTRAN)技术 | 第20页 |
| ·SOI器件中材料的物理性质 | 第20-22页 |
| ·晶体硅的物理性质 | 第21页 |
| ·半导体与激光相互作用机制 | 第21-22页 |
| ·SOI器件的自加热效应 | 第22页 |
| ·小结 | 第22-23页 |
| 第三章 激光波长效应的理论分析 | 第23-29页 |
| ·吸收深度对辐照效应的影响 | 第23-25页 |
| ·激光辐照半导体材料模型 | 第25-28页 |
| ·小结 | 第28-29页 |
| 第四章 不同波长激光与SOI晶体相互作用的数值模拟 | 第29-38页 |
| ·1064nm激光对SOI材料的损伤分析 | 第31-33页 |
| ·532nm激光对SOI材料的损伤分析 | 第33-34页 |
| ·355nm激光对SOI材料的损伤分析 | 第34-36页 |
| ·分析与讨论 | 第36-38页 |
| 第五章 不同波长激光与SOI晶体相互作用的实验研究 | 第38-61页 |
| ·实验样品 | 第38-39页 |
| ·实验系统 | 第39-41页 |
| ·激光器 | 第39页 |
| ·实验步骤 | 第39-41页 |
| ·1064nm激光辐照SOI样品实验 | 第41-47页 |
| ·光斑形态 | 第41-42页 |
| ·标定分光镜 | 第42-43页 |
| ·损伤测量 | 第43-45页 |
| ·损伤形貌观察 | 第45-47页 |
| ·532nm激光辐照SOI样品实验 | 第47-52页 |
| ·光斑形态 | 第47页 |
| ·标定分光镜 | 第47-48页 |
| ·损伤测量 | 第48-51页 |
| ·损伤形貌观察 | 第51-52页 |
| ·355nm激光辐照SOI样品实验 | 第52-57页 |
| ·光斑形态 | 第52-53页 |
| ·标定分光镜 | 第53-54页 |
| ·损伤测量 | 第54-56页 |
| ·损伤形貌观察 | 第56-57页 |
| ·实验总结与讨论 | 第57-61页 |
| 第六章 总结与展望 | 第61-63页 |
| ·本论文主要工作总结 | 第61页 |
| ·论文研究工作的展望 | 第61-63页 |
| 参考文献 | 第63-66页 |
| 致谢 | 第66-67页 |
| 硕士期间论文发表情况 | 第67页 |