| 摘要 | 第1-6页 |
| ABSTRACT | 第6-8页 |
| 目录 | 第8-10页 |
| 第一章 绪论 | 第10-26页 |
| ·基于强激光技术的材料动态微介观诊断研究 | 第10-13页 |
| ·超快X射线源的产生 | 第13-23页 |
| ·超热电子的产生 | 第15-20页 |
| ·超热电子产生X射线 | 第20-22页 |
| ·提高X射线产额的方式 | 第22-23页 |
| ·利用自导透明对激光整形提高X射线产额 | 第23-24页 |
| ·文献研究总结及评价 | 第24页 |
| ·论文的研究思路及工作框架 | 第24-26页 |
| 第二章 过密等离子体的自导透明 | 第26-36页 |
| ·过密等离子体自导透明的基本理论 | 第26-27页 |
| ·自导透明的研究现状 | 第27-31页 |
| ·过密等离子体自导透明的模拟研究 | 第31-34页 |
| ·模拟方法 | 第31-33页 |
| ·模拟结果 | 第33-34页 |
| ·本章小结 | 第34-36页 |
| 第三章 高能电子回流对过密等离子体自导透明的影响研究 | 第36-48页 |
| ·离子固定时高能电子回流增强自导透明 | 第36-41页 |
| ·高能电子回流的产生输运过程及其对自导透明的影响机制 | 第41-46页 |
| ·高能电子回流的产生输运过程 | 第41-44页 |
| ·高能电子回流对自导透明的影响机制 | 第44-46页 |
| ·离子自由时和更高密度等离子体时高能电子回流对自导透明的影响 | 第46-47页 |
| ·本章小结 | 第47-48页 |
| 第四章 利用高能电子流影响自导透明进行激光脉冲整形 | 第48-62页 |
| ·激光脉冲整形的研究现状 | 第49-52页 |
| ·抑制激光预脉冲 | 第49-50页 |
| ·陡峭前沿激光脉冲 | 第50-51页 |
| ·准单周期脉冲 | 第51-52页 |
| ·高能电子流对自导透明的影响 | 第52-57页 |
| ·不同等离子体厚度时高能电子流对自导透明的影响 | 第52-55页 |
| ·不同入射时间的高能电子流对自导透明的影响 | 第55-56页 |
| ·不同强度的高能电子流对自导透明的影响 | 第56-57页 |
| ·利用高能电子流影响自导透明进行激光脉冲整形 | 第57-61页 |
| ·本章小结 | 第61-62页 |
| 第五章 全文总结与展望 | 第62-65页 |
| ·全文总结 | 第62-63页 |
| ·主要创新点 | 第63页 |
| ·工作展望 | 第63-65页 |
| 参考文献 | 第65-72页 |
| 附录 | 第72-73页 |
| 致谢 | 第73页 |
