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非晶态TiO2-Cr(V)薄膜的制备及光催化性能研究

摘要第1-4页
ABSTRACT第4-9页
1 绪论第9-29页
   ·概述第9-11页
   ·半导体纳米粒子光催化作用的基础第11-15页
     ·半导体的能带结构第11-12页
     ·非晶半导体的能带结构第12-13页
     ·非平衡载流子的光注入第13-14页
     ·半导体/接触相界面结构第14-15页
     ·电子、空穴的捕获第15页
   ·半导体光催化反应速率、效率的影响因素第15-18页
     ·催化剂的影响第15-17页
     ·与降解条件有关的其它因素的影响第17-18页
     ·具有吸附功能的复合催化剂的影响第18页
   ·半导体光催化剂的研究进展第18-22页
     ·悬浮相光催化氧化技术第18-19页
     ·固定相光催化氧化技术第19页
     ·TiO_2 半导体光催化剂的改性技术第19-22页
   ·TiO_2 薄膜的制备技术第22-24页
     ·化学气相沉积法第22页
     ·溶胶-凝胶法第22页
     ·溅射沉积法第22-24页
   ·应用第24-26页
     ·在有机污染物废水方面的应用第24页
     ·在无机污染物废水方面的应用第24页
     ·大气的净化第24页
     ·杀毒、抗菌第24-25页
     ·光解水制氢第25-26页
   ·目前存在的问题第26页
   ·论文工作的理论依据和设想第26-29页
2 磁控溅射法制备二氧化钛薄膜第29-39页
   ·溅射法镀膜靶材及工艺研究进展第29-33页
     ·溅射镀膜工艺第29页
     ·溅射镀膜原理第29页
     ·溅射镀膜机理第29-30页
     ·磁控溅射镀膜原理第30-31页
     ·薄膜的生长理论第31-32页
     ·以不同靶材镀二氧化钛薄膜的工艺第32-33页
   ·磁控溅射法中薄膜生长过程与薄膜结构第33-35页
   ·半导体薄膜材料掺杂的作用第35-36页
   ·薄膜材料的特殊性第36-39页
     ·表面能级很大第36页
     ·薄膜的力学性质第36-38页
     ·异常结构和非理想化学计量比特性第38-39页
3 实验第39-45页
   ·引言第39-40页
   ·确定掺杂离子的理论依据第40-41页
   ·本论文的溅射镀膜工艺第41-43页
     ·实验设备及材料第41-42页
     ·实验流程第42页
     ·TiO_2-M 薄膜的制备第42-43页
   ·TiO_2-M 薄膜试样的结构与性能测试第43-45页
4 TiO_2-CR 薄膜的制备及性能研究第45-63页
   ·引言第45页
   ·TiO_2-CR 薄膜的XRD 分析第45-46页
   ·TiO_2-CR 薄膜的XPS 分析第46-49页
   ·TiO_2-CR 薄膜的AFM 分析第49-50页
   ·TiO_2-CR 薄膜的紫外-可见吸收光谱分析第50-51页
   ·TiO_2-CR 薄膜的光致发光光谱分析第51-53页
   ·非晶TiO_2-CR 薄膜对亚甲基蓝溶液的光催化活性分析第53-57页
     ·Cr 相对掺量对光催化活性的影响第54-56页
     ·薄膜厚度对光催化活性的影响第56-57页
   ·非晶TiO_2-CR 薄膜对罗丹明B 的光催化降解研究第57-61页
     ·罗丹明B 的热稳定性第57-58页
     ·罗丹明B 的光稳定稳定性第58页
     ·TiO_2-Cr 非晶薄膜对罗丹明B 的吸附特性第58页
     ·TiO_2-Cr 非晶薄膜对罗丹明B 的光催化降解第58-61页
   ·TiO_2-CR 非晶薄膜的光催化性能分析第61-62页
   ·本章小结第62-63页
5 TiO_2-V 薄膜的制备及性能研究第63-73页
   ·引言第63页
   ·TiO_2-V 薄膜的XRD 分析第63-64页
   ·TiO_2-V 薄膜的XPS 分析第64-66页
   ·TiO_2-V 薄膜的紫外-可见光吸收光谱分析第66-67页
   ·TiO_2-V 薄膜的光致发光光谱分析第67-68页
   ·TiO_2-V 薄膜的光催化活性分析第68-71页
     ·V 相对掺杂量对非晶TiO_2-V 薄膜光催化性能的影响第68-69页
     ·膜厚对非晶TiO_2-V 薄膜光催化性能的影响第69-70页
     ·溅射温度对非晶TiO_2-V 薄膜光催化性能的影响第70-71页
   ·本章小结第71-73页
6 结论第73-75页
7 后续工作第75-77页
致谢第77-79页
参考文献第79-85页
附录第85页

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