钢基表面氧化铝薄膜制备的研究
| 摘要 | 第1-6页 |
| ABSTRACT | 第6-9页 |
| 第一章 绪论 | 第9-21页 |
| ·引言 | 第9-10页 |
| ·Al_2O_3 薄膜的基本性能和应用 | 第10-14页 |
| ·氧化铝的性质 | 第11-12页 |
| ·氧化铝薄膜的应用领域 | 第12-14页 |
| ·氧化铝薄膜的制备技术 | 第14-18页 |
| ·等离子体化学气相沉积法(PECVD) | 第14-15页 |
| ·真空蒸发 | 第15-16页 |
| ·金属有机物化学气相沉积法(MOCVD) | 第16页 |
| ·溶胶凝胶法 | 第16页 |
| ·电子束物理气相沉积法 | 第16页 |
| ·脉冲激光沉积 | 第16-17页 |
| ·磁控溅射法 | 第17-18页 |
| ·磁控溅射法制备 Al_2O_3 薄膜研究的现状 | 第18-19页 |
| ·本课题研究的意义和主要内容 | 第19-21页 |
| ·本课题研究的目的和意义 | 第19页 |
| ·本课题研究的主要内容 | 第19-21页 |
| 第二章 实验方法 | 第21-29页 |
| ·射频磁控溅射制备 Al_2O_3 薄膜 | 第21-25页 |
| ·磁控溅的原理 | 第21-24页 |
| ·射频磁控溅射设备 | 第24-25页 |
| ·薄膜的分析与检测设备 | 第25-29页 |
| ·薄膜的表面形貌分析 | 第25-26页 |
| ·薄膜的结构分析 | 第26页 |
| ·薄膜的键合分析 | 第26页 |
| ·薄膜的附着力测试 | 第26-27页 |
| ·薄膜的摩擦学性能测试 | 第27-29页 |
| 第三章 Al_2O_3 薄膜的制备 | 第29-34页 |
| ·基片的制取 | 第29页 |
| ·中间层的选择及制备 | 第29-30页 |
| ·磁控溅射的工艺参数 | 第30-33页 |
| ·溅射气压对薄膜的影响 | 第31-32页 |
| ·溅射功率对薄膜厚度的影响 | 第32-33页 |
| ·磁控溅射后的热处理 | 第33-34页 |
| 第四章 薄膜的形貌和成分分析 | 第34-38页 |
| ·Al_2O_3 薄膜的表面形貌 | 第34-36页 |
| ·薄膜的成分分析 | 第36-38页 |
| 第五章 Al_2O_3 薄膜的结构及生长机理分析 | 第38-42页 |
| ·薄膜的生长模式 | 第38页 |
| ·薄膜的结构 | 第38-40页 |
| ·薄膜的FTIR光谱分析 | 第40-42页 |
| 第六章 Al_2O_3 薄膜的结合力测试 | 第42-61页 |
| ·结合力测试方法 | 第42-43页 |
| ·影响结合力的因素 | 第43-54页 |
| ·溅射功率对薄膜结合力的影响 | 第43-46页 |
| ·溅射气压对薄膜结合力的影响 | 第46-50页 |
| ·溅射时间对薄膜结合力的影响 | 第50-54页 |
| ·薄膜结合力的改善 | 第54-61页 |
| ·薄膜的附着机理 | 第54-55页 |
| ·薄膜结合力改善的方法 | 第55页 |
| ·中间过渡层对薄膜结合力的改善 | 第55-59页 |
| ·基体预处理改善膜基结合力 | 第59-61页 |
| 第七章 Al_2O_3 薄膜摩擦性能研究 | 第61-69页 |
| ·摩擦磨损试验 | 第61-69页 |
| ·溅射功率对薄膜摩擦性能的影响 | 第61-63页 |
| ·多层薄膜的摩擦学性能 | 第63-66页 |
| ·薄膜的摩擦磨损机理 | 第66-69页 |
| 结论 | 第69-70页 |
| 参考文献 | 第70-74页 |
| 致谢 | 第74-75页 |
| 攻读硕士期间发表论文 | 第75页 |
