高分子链构象统计中的Monte Carlo方法
序 | 第1-5页 |
内容提要 | 第5-8页 |
第1章 绪论 | 第8-13页 |
·Monte Carlo 方法概述 | 第8-9页 |
·Monte Carlo 方法与高分子科学 | 第9-10页 |
·高分子链模型与构象统计 | 第10-11页 |
·本文完成的主要工作 | 第11-13页 |
第2章 Monte Carlo 方法基础 | 第13-19页 |
·Monte Carlo 方法的基本思想 | 第13-14页 |
·随机数 | 第14-17页 |
·随机数的产生算法 | 第15-16页 |
·随机数的质量检验 | 第16-17页 |
·随机变量的抽样 | 第17-19页 |
第3章 高分子链模型 | 第19-38页 |
·高分子链模型中的重要概念 | 第19-22页 |
·末端距和均方末端距 | 第19-20页 |
·自由连接链(理想链) | 第20页 |
·自由旋转链(受限链) | 第20-21页 |
·BLOB 链模型 | 第21-22页 |
·格子模型 | 第22-33页 |
·格子模型基础 | 第22-26页 |
·密堆积问题 | 第26-27页 |
·三角点阵模型 | 第27-30页 |
·体心立方模型 | 第30-33页 |
·非格子模型 | 第33-38页 |
·确定三个相连的键向量 | 第34-37页 |
·自由旋转链的模拟方法 | 第37-38页 |
第4章 高分子链末端距的研究 | 第38-49页 |
·无规行走和自回避行走 | 第38-40页 |
·无规行走的末端距 | 第38-39页 |
·自回避行走的末端距 | 第39-40页 |
·格子模型上的无规行走 | 第40-44页 |
·无规行走链构象的抽样算法 | 第41-42页 |
·无规行走链均方末端距的统计结果 | 第42-44页 |
·格子模型上的自回避行走 | 第44-49页 |
·自回避行走的偏倚抽样 | 第44-46页 |
·自回避行走链构象的抽样算法 | 第46-47页 |
·自回避行走链均方末端距的统计结果 | 第47-49页 |
第5章 高分子链构象能的研究 | 第49-57页 |
·高分子链的构象能 | 第49-52页 |
·高分子键的状态分布 | 第49-50页 |
·内旋转势函数 | 第50-52页 |
·高分子链构象与构象能 | 第52-57页 |
·真实高分子链的 Monte Carlo 模拟 | 第52-54页 |
·构象能的应用实例 | 第54-57页 |
第6章 高分子链形状的研究 | 第57-63页 |
·高分子链的形状 | 第57-59页 |
·Monte Carlo 方法求解主轴分量 | 第59-60页 |
·无规行走链主轴分量的统计结果 | 第60-61页 |
·无规行走链回转半径和末端距的关系 | 第61-63页 |
第7章 结束语 | 第63-65页 |
·工作总结 | 第63-64页 |
·高分子链构象统计的后继研究 | 第64-65页 |
参考文献 | 第65-67页 |
摘要 | 第67-69页 |
Abstract | 第69-72页 |
致谢 | 第72-73页 |
导师及作者介绍 | 第73页 |