集成化可变光学衰减器的研究
中文摘要 | 第1-4页 |
英文摘要 | 第4-5页 |
目录 | 第5-6页 |
第一章 绪论 | 第6-11页 |
§1.1 全光通讯的发展 | 第6-9页 |
§1.2 光衰减器的发展概述 | 第9-11页 |
第二章 SOI光波导材料与脊形光波导特性 | 第11-18页 |
§2.1 SOI光波导材料 | 第11-13页 |
§2.2 SOI脊形光波导 | 第13-16页 |
§2.3 脊形光波导的损耗特性 | 第16-18页 |
第三章 SOI光学衰减器模型 | 第18-31页 |
§3.1 Y分支马赫——曾德光学衰减器模型 | 第18-20页 |
§3.2 多模干涉耦合器型光学衰减器模型 | 第20-25页 |
§3.3 SOI波导光学衰减器的折射率调制模型 | 第25-31页 |
第四章 SOI光学衰减器的制备及其工艺研究 | 第31-41页 |
§4.1 SOI光学衰减器的结构 | 第31页 |
§4.2 波导光学衰减器的制备工艺 | 第31-35页 |
§4.3 硅的刻蚀工艺的研究 | 第35-41页 |
第五章 光学衰减器的测试 | 第41-49页 |
§5.1 光衰减器的测试参数 | 第41-43页 |
§5.2 光衰减器的测试系统及测试方案 | 第43-44页 |
§5.3 测试参数的结果及其分析 | 第44-49页 |
结论 | 第49-51页 |
致谢 | 第51-52页 |
参考文献 | 第52-53页 |