摘要 | 第1-7页 |
Abstract | 第7-9页 |
目录 | 第9-12页 |
第一章 绪论 | 第12-42页 |
·引言 | 第12-14页 |
·FeS_2的基本特性 | 第14-16页 |
·FeS_2薄膜的制备方法 | 第16-25页 |
·化学气相沉积法(CVD) | 第17-18页 |
·分子束外延(MBE) | 第18-19页 |
·化学喷雾热解法(Chemical Spray Pyrolysis) | 第19页 |
·先驱体膜硫化法 | 第19-22页 |
·其它方法 | 第22-25页 |
·FeS_2薄膜的光学性能 | 第25-27页 |
·FeS_2薄膜的电学性能 | 第27-29页 |
·FeS_2薄膜的掺杂改性 | 第29-31页 |
·FeS_2的光电转换性能 | 第31-35页 |
·本文研究目的及主要创新点 | 第35-36页 |
参考文献 | 第36-42页 |
第二章 研究方案 | 第42-50页 |
·实验设计方案 | 第42-44页 |
·实验原料与设备 | 第44-45页 |
·实验原料 | 第44-45页 |
·实验设备 | 第45页 |
·性能表征用仪器及方法 | 第45-48页 |
·结构检测 | 第45-46页 |
·性能测试 | 第46-48页 |
参考文献 | 第48-50页 |
第三章 硫化参数对FeS_2薄膜光电性能的影响 | 第50-74页 |
·薄膜的制备及表征 | 第50-53页 |
·基底的清洗 | 第50-51页 |
·先驱体氧化铁膜的制备 | 第51页 |
·先驱体膜的硫化 | 第51-52页 |
·分析测试 | 第52-53页 |
·结果与讨论 | 第53-70页 |
·Fe_2O_3先驱体薄膜的形成 | 第53-56页 |
·硫化参数对FeS_2薄膜晶体结构的影响 | 第56-59页 |
·硫化参数对FeS_2薄膜组织形貌的影响 | 第59-63页 |
·薄膜成分分析 | 第63-65页 |
·硫化参数对FeS_2薄膜光学性能的影响 | 第65-68页 |
·硫化参数对FeS_2薄膜电学性能的影响 | 第68-70页 |
·本章小结 | 第70-72页 |
参考文献 | 第72-74页 |
第四章 Cu、Al掺杂对FeS_2薄膜光电性能的影响 | 第74-100页 |
·薄膜的制备及表征 | 第75-76页 |
·Cu掺杂对FeS_2薄膜组织性能的影响 | 第76-86页 |
·Cu掺杂FeS_2薄膜的晶体结构 | 第76-78页 |
·Cu掺杂FeS_2薄膜的表面形貌 | 第78-80页 |
·成分分析 | 第80-83页 |
·Cu掺杂FeS_2薄膜的光学性能 | 第83-85页 |
·Cu掺杂FeS_2薄膜的电学性能 | 第85-86页 |
·Al掺杂对FeS_2薄膜组织性能的影响 | 第86-95页 |
·Al掺杂FeS_2薄膜的晶体结构 | 第86-88页 |
·Al掺杂FeS_2薄膜的表面形貌 | 第88-89页 |
·成分分析 | 第89-93页 |
·Al掺杂FeS_2薄膜的光学性能 | 第93-94页 |
·Al掺杂FeS_2薄膜的电学性能 | 第94-95页 |
·本章小结 | 第95-97页 |
参考文献 | 第97-100页 |
第五章 FeS_2/TiO_2复合膜的制备与光电性能研究 | 第100-126页 |
·实验过程 | 第101-104页 |
·TiO_2纳米晶多孔膜(TiO_2 NC)的制备 | 第101-102页 |
·TiO_2纳米管有序阵列(TiO_2 NT)的制备 | 第102-103页 |
·FeS_2薄膜的沉积 | 第103-104页 |
·性能测试 | 第104页 |
·FeS_2与TiO_2纳米晶多孔膜复合 | 第104-110页 |
·基本结构表征 | 第104-107页 |
·光学性能 | 第107-108页 |
·光电化学性能 | 第108-110页 |
·FeS_2与TiO_2纳米管阵列复合 | 第110-122页 |
·基本结构表征 | 第110-118页 |
·电沉积形成FeS_2/TiO_2复合薄膜的机理分析 | 第118-120页 |
·光电化学性能 | 第120-122页 |
·本章小结 | 第122-124页 |
参考文献 | 第124-126页 |
第六章 全文总结 | 第126-129页 |
致谢 | 第129-130页 |
个人简历 | 第130-131页 |
攻读学位期间所取得的科研成果 | 第131页 |