| 摘要 | 第1-5页 |
| ABSTRACT | 第5-7页 |
| ACKNOWLEDGEMENTS | 第7-10页 |
| LIST OF FIGURES | 第10-12页 |
| LIST OF TABLES | 第12-13页 |
| CHAPTER 1 Introduction | 第13-35页 |
| ·The global environmental problems | 第13-14页 |
| ·Application of TiO_2 films | 第14-26页 |
| ·Potential application in DSSC | 第15-20页 |
| ·Processes in DSSC | 第17-19页 |
| ·Photoelectrodes for DSSC | 第19-20页 |
| ·Potential application in photocatalysis | 第20-25页 |
| ·The principle of photocatalysis | 第22-23页 |
| ·Development of TiO_2 photocatalysts | 第23-25页 |
| ·Potential application in biosensor | 第25-26页 |
| ·Modified TiO_2 for application | 第26-32页 |
| ·Preparation of TiO_2 film by compositional doping | 第27-29页 |
| ·Preparation of nanometerials TiO_2 film | 第29-32页 |
| ·Objective of the research | 第32-35页 |
| ·Study the growth of TiO_2 film by reactive magnetron sputtering | 第32页 |
| ·Study the growth of nanostructural TiO_2 film by oxidizing sputtering deposited Ti films | 第32-35页 |
| CHAPTER 2 Experimental | 第35-40页 |
| ·Preparation of TiO_2 film | 第35-37页 |
| ·Reactive magnetron sputtering | 第35-36页 |
| ·Directly oxidizing metal films deposited by magnetron sputtering | 第36-37页 |
| ·Characterization | 第37-40页 |
| ·Raman spectroscopy | 第37-38页 |
| ·X-ray diffraction | 第38页 |
| ·Scanning Electron Microscope (SEM) | 第38-39页 |
| ·Ellipsometry | 第39-40页 |
| CHAPTER 3 Growth of TiO_2 films by reactive magnetron sputtering | 第40-59页 |
| ·Influence of O_2/Ar flow rate ratio | 第41-45页 |
| ·Influence of working pressure | 第45-49页 |
| ·Influence of substrate temperature | 第49-53页 |
| ·Influence of sputtering power | 第53-57页 |
| ·Conclusion | 第57-59页 |
| CHAPTER 4 Growth of nanostructural TiO_2 films by oxidizing the sputtering deposited metal films | 第59-79页 |
| ·Nanostructural films prepared by oxidizing sputtering deposited pure Ti film | 第60-67页 |
| ·Effects of oxidizing temperature | 第60-63页 |
| ·Characterization of TiO_2 nanostructures | 第63-65页 |
| ·Growth mechanism | 第65-67页 |
| ·Nanostructural films prepared by oxidizing sputtering deposited Cu-Ti and Zn-Ti films | 第67-78页 |
| ·Effects of process parameters | 第69-75页 |
| ·Effects of metal film composition | 第69-72页 |
| ·Effects of oxidizing temperature | 第72页 |
| ·Effects of heating rate | 第72-73页 |
| ·Effects of heating duration | 第73-75页 |
| ·Characterization of TiO_2 nanostructure | 第75-77页 |
| ·Growth mechanism | 第77-78页 |
| ·Conclusion | 第78-79页 |
| CHAPTER 5 Conclusion | 第79-81页 |
| REFERENCES | 第81-88页 |
