| 摘要 | 第3-5页 |
| Abstract | 第5-6页 |
| 第1章 绪论 | 第11-28页 |
| 1.1 引言 | 第11-12页 |
| 1.2 固态电解质 | 第12-15页 |
| 1.2.1 固态聚合物电解质 | 第13页 |
| 1.2.2 无机固态电解质 | 第13-15页 |
| 1.3 靶材概论 | 第15-21页 |
| 1.3.1 靶材的基本性能要求 | 第16-17页 |
| 1.3.2 靶材存在的问题 | 第17页 |
| 1.3.3 靶材的成型技术 | 第17-19页 |
| 1.3.4 靶材干压成型的原理 | 第19-20页 |
| 1.3.5 靶材的烧结技术 | 第20页 |
| 1.3.6 靶材的烧结机理 | 第20-21页 |
| 1.4 Li_3PO_4的基本性质 | 第21页 |
| 1.5 LiPON薄膜电解质 | 第21-25页 |
| 1.5.1 LiPON的结构及离子导电机理 | 第22页 |
| 1.5.2 LiPON薄膜电解质的研究现状及应用 | 第22-24页 |
| 1.5.3 LiPON薄膜电解质存在的问题和改性 | 第24-25页 |
| 1.6 LiWPON薄膜的制备方法 | 第25-26页 |
| 1.6.1 磁控溅射技术 | 第25页 |
| 1.6.2 脉冲激光沉积技术(PLD) | 第25-26页 |
| 1.7 本论文研究的目的和意义 | 第26页 |
| 1.8 本论文主要研究内容和创新点 | 第26-28页 |
| 1.8.1 主要内容 | 第26-27页 |
| 1.8.2 创新点 | 第27-28页 |
| 第2章 试样步骤及性能测试方法概述 | 第28-35页 |
| 2.1 混合料的制备 | 第28-29页 |
| 2.2 靶材成型 | 第29页 |
| 2.3 靶材烧结 | 第29-30页 |
| 2.4 LiWPON薄膜的制备 | 第30-31页 |
| 2.4.1 磁控溅射法制备LiWPON薄膜衬底的选择 | 第30页 |
| 2.4.2 磁控溅射法制备LiWPON薄膜的实验步骤 | 第30-31页 |
| 2.4.3 脉冲激光沉积技术(PLD)制备LiWPON薄膜衬底的选择 | 第31页 |
| 2.4.4 脉冲激光沉积技术(PLD)制备LiWPON薄膜的实验步骤 | 第31页 |
| 2.5 实验设备及作用 | 第31-32页 |
| 2.6 混合料和靶材的表征 | 第32-34页 |
| 2.6.1 SEM微观形貌分析与EDS成分分析 | 第32页 |
| 2.6.2 原子力显微镜 | 第32页 |
| 2.6.3 抗弯强度测试 | 第32-33页 |
| 2.6.4 硬度测试 | 第33页 |
| 2.6.5 XRD物相分析 | 第33页 |
| 2.6.6 线收缩率测试 | 第33页 |
| 2.6.7 致密度测试 | 第33-34页 |
| 2.6.8 激光粒度分析 | 第34页 |
| 2.7 LiWPON薄膜的性能表征 | 第34-35页 |
| 第3章 W掺杂Li_3PO_4靶材的制备、性能表征与分析 | 第35-65页 |
| 3.1 Al_2O_3为磨球制备W掺杂Li_3PO_4混合料及烧结 | 第35-46页 |
| 3.1.1 Al_2O_3为磨球制备混合料 | 第35-37页 |
| 3.1.2 Al_2O_3为磨球制备W掺杂Li_3PO_4混合料的表征 | 第37-39页 |
| 3.1.3 烧结温度为800℃的各掺杂靶材的XRD分析 | 第39页 |
| 3.1.4 烧结温度对靶材致密度的影响 | 第39-41页 |
| 3.1.5 烧结温度对掺杂质量比为0.5%的靶材力学性能的影响 | 第41-42页 |
| 3.1.6 保温时间对掺杂质量比为0.5%的靶材致密度的影响 | 第42-43页 |
| 3.1.7 保温时间对掺杂质量比为0.5%的靶材力学性能的影响 | 第43-44页 |
| 3.1.8 SEM微观形貌分析 | 第44-45页 |
| 3.1.9 小结 | 第45-46页 |
| 3.2 WC为磨球制备W掺杂Li_3PO_4混合料及烧结 | 第46-54页 |
| 3.2.1 WC为磨球制备混合料 | 第46-48页 |
| 3.2.2 WC为磨球制备W掺杂Li_3PO_4混合料的表征 | 第48-49页 |
| 3.2.3 烧结温度为800℃的掺杂靶材XRD和EDS分析 | 第49-50页 |
| 3.2.4 WC球料比对靶材致密度的影响 | 第50-51页 |
| 3.2.5 WC球料比对靶材力学性能的影响 | 第51-53页 |
| 3.2.6 SEM微观形貌分析 | 第53-54页 |
| 3.2.7 小结 | 第54页 |
| 3.3 WO_3包覆Li_3PO_4混合料的制备及其烧结 | 第54-65页 |
| 3.3.1 WO_3包覆Li_3PO_4混合料的制备 | 第55-57页 |
| 3.3.2 WO_3包覆Li_3PO_4混合料的表征 | 第57-59页 |
| 3.3.3 烧结温度为800℃的掺杂靶材XRD分析 | 第59页 |
| 3.3.4 烧结温度&AMT含量对靶材线收缩率的影响 | 第59-60页 |
| 3.3.5 烧结温度&AMT含量对靶材致密度的影响 | 第60-61页 |
| 3.3.6 烧结温度&AMT含量对靶材抗弯强度的影响 | 第61-62页 |
| 3.3.7 烧结温度&AMT含量对靶材维氏硬度的影响 | 第62-63页 |
| 3.3.8 SEM微观形貌分析 | 第63-64页 |
| 3.3.9 小结 | 第64-65页 |
| 第4章 LiWPON薄膜的制备与表征 | 第65-72页 |
| 4.1 磁控溅射法制备LiWPON薄膜 | 第65-67页 |
| 4.1.1 磁控溅射法制备LiWPON薄膜的工艺参数 | 第65-66页 |
| 4.1.2 LiWPON薄膜XRD分析 | 第66-67页 |
| 4.1.3 LiWPON薄膜SEM分析 | 第67页 |
| 4.2 脉冲激光沉积技术(PLD)制备LiWPON薄膜 | 第67-71页 |
| 4.2.1 脉冲激光沉积技术(PLD)制备LiWPON薄膜的工艺参数 | 第68页 |
| 4.2.2 LiWPON薄膜XRD分析 | 第68-69页 |
| 4.2.3 LiWPON薄膜SEM分析 | 第69-70页 |
| 4.2.4 LiWPON薄膜AFM分析 | 第70-71页 |
| 4.3 小结 | 第71-72页 |
| 第5章 结论 | 第72-73页 |
| 第6章 后续工作的展望 | 第73-74页 |
| 参考文献 | 第74-80页 |
| 致谢 | 第80-81页 |
| 攻读硕士学位期间的研究成果 | 第81页 |
