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深紫外AlGaN低维材料光学性质及应用研究

摘要第4-6页
Abstract第6-7页
第一章 绪论第12-28页
    1.1 Ⅲ族氮化物半导体材料的发展历史第12-15页
    1.2 Ⅲ族氮化物半导体材料的结构与性质第15-21页
        1.2.1 晶格结构第15页
        1.2.2 物理特性第15-18页
        1.2.3 能带特性第18-19页
        1.2.4 极化特性第19-21页
    1.3 AlGaN低维材料结构与性质第21-26页
        1.3.1 AlGaN量子阱第22-24页
        1.3.2 AlGaN量子点第24-26页
    1.4 本论文的研究内容和结构安排第26-28页
第二章 材料生长技术与实验方法第28-38页
    2.1 MOCVD生长技术第28-30页
    2.2 实验测试方法第30-35页
        2.2.1 光致发光第30-34页
        2.2.2 原子力显微镜第34-35页
    2.3 器件制备关键技术第35-37页
        2.3.1 键合技术第35页
        2.3.2 激光剥离技术第35-37页
    2.4 本章小结第37-38页
第三章 AlGaN低维材料光学特性研究第38-55页
    3.1 AlGaN低维材料结构第38-39页
        3.1.1 AlGaN量子阱样品结构第38页
        3.1.2 AlGaN量子点样品结构第38-39页
    3.2 低温变功率PL测试第39-46页
        3.2.1 AlGaN量子阱变功率测试第39-42页
        3.2.2 AlGaN量子点变功率测试第42-45页
        3.2.3 变功率PL结果比较第45-46页
    3.3 变温PL测试第46-53页
        3.3.1 AlGaN量子阱变温测试第46-49页
        3.3.2 AlGaN量子点变温测试第49-53页
        3.3.3 变温PL结果比较第53页
    3.4 本章小结第53-55页
第四章 深紫外光泵VCSEL研制第55-76页
    4.1 高反射率DBR设计第55-64页
        4.1.1 分布布拉格反射镜(DBR)第55-61页
        4.1.2 DBR生长方案第61-62页
        4.1.3 DBR实际生长结果与模拟比较第62-64页
    4.2 器件制备工艺流程第64-65页
    4.3 激光剥离试验第65-74页
        4.3.1 AlGaN量子阱样品激光剥离试验第65-66页
        4.3.2 AlGaN量子点样品激光剥离试验第66-72页
        4.3.3 AFM测试第72-74页
    4.4 器件性能测试及改进第74-75页
    4.5 本章小结第75-76页
第五章 总结与展望第76-78页
在学期间发表论文第78-79页
致谢第79-81页
参考文献第81-88页

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