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PZT压电薄膜体声波谐振器制备研究

摘要第4-5页
abstract第5-6页
1 绪论第10-16页
    1.1 课题研究背景及意义第10-11页
    1.2 薄膜体声波谐振器的国内外研究动态第11-14页
    1.3 本论文研究的主要内容第14-16页
2 PZT压电薄膜体声波谐振器理论基础第16-27页
    2.1 薄膜体声波谐振器的基本原理及结构第16-18页
    2.2 固体中的平面波第18-23页
        2.2.1 固体中的平面声波方程第18-21页
        2.2.2 压电介质中的平面声波第21-23页
    2.3 薄膜体声波谐振器的主要性能指标第23-25页
    2.4 薄膜体声波谐振器材料选择第25-26页
        2.4.1 电极层材料选择第25页
        2.4.2 压电层材料选择第25-26页
    2.5 本章小结第26-27页
3 薄膜体声波谐振器建模及仿真第27-43页
    3.1 FBAR等效电路模型第27-33页
        3.1.1 Mason模型第27-30页
        3.1.2 BVD和MBVD模型第30-33页
    3.2 FBAR电学仿真第33-38页
        3.2.1 建立仿真库第33-35页
        3.2.2 不同压电材料对FBAR阻抗特性的影响第35-36页
        3.2.3 不同压电层厚度对FBAR阻抗特性的影响第36-37页
        3.2.4 不同电极材料对FBAR阻抗特性的影响第37-38页
    3.3 FBAR有限元仿真第38-42页
        3.3.1 有限元仿真原理第38-39页
        3.3.2 建模及参数设置第39-40页
        3.3.3 电极形状对谐振模态的影响第40-41页
        3.3.4 谐振面积对谐振模态的影响第41-42页
        3.3.5 谐振区域位移分布第42页
    3.4 本章小结第42-43页
4 横膈膜型薄膜体声波谐振器制备工艺关键技术第43-62页
    4.1 器件结构加工流程设计第43-44页
    4.2 器件结构版图设计第44-45页
    4.3 PZT压电功能材料制备及表征第45-50页
        4.3.1 PZT薄膜的制备方法第45-46页
        4.3.2 Sol-Gel制备PZT薄膜第46-48页
        4.3.3 PZT薄膜的性能表征第48-50页
    4.4 FBAR器件结构关键工艺研究第50-61页
        4.4.1 紫外光刻技术研究第50-53页
        4.4.2 PZT压电膜通孔工艺第53-54页
        4.4.3 下电极图形化第54-55页
        4.4.4 上电极图形化第55页
        4.4.5 支撑层刻蚀工艺第55-59页
        4.4.6 背腔刻蚀工艺研究第59-61页
    4.5 本章小结第61-62页
5 FBAR器件初步测试第62-67页
    5.1 测试系统搭建及初步测试分析第62-63页
    5.2 S参数测试第63-66页
    5.3 本章小结第66-67页
6 总结与展望第67-69页
    6.1 论文的主要研究内容及结论第67-68页
    6.2 论文创新点第68页
    6.3 工作展望第68-69页
参考文献第69-75页
攻读硕士学位期间所取得的研究成果第75-76页
致谢第76-77页

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