摘要 | 第4-5页 |
abstract | 第5-6页 |
1 绪论 | 第10-16页 |
1.1 课题研究背景及意义 | 第10-11页 |
1.2 薄膜体声波谐振器的国内外研究动态 | 第11-14页 |
1.3 本论文研究的主要内容 | 第14-16页 |
2 PZT压电薄膜体声波谐振器理论基础 | 第16-27页 |
2.1 薄膜体声波谐振器的基本原理及结构 | 第16-18页 |
2.2 固体中的平面波 | 第18-23页 |
2.2.1 固体中的平面声波方程 | 第18-21页 |
2.2.2 压电介质中的平面声波 | 第21-23页 |
2.3 薄膜体声波谐振器的主要性能指标 | 第23-25页 |
2.4 薄膜体声波谐振器材料选择 | 第25-26页 |
2.4.1 电极层材料选择 | 第25页 |
2.4.2 压电层材料选择 | 第25-26页 |
2.5 本章小结 | 第26-27页 |
3 薄膜体声波谐振器建模及仿真 | 第27-43页 |
3.1 FBAR等效电路模型 | 第27-33页 |
3.1.1 Mason模型 | 第27-30页 |
3.1.2 BVD和MBVD模型 | 第30-33页 |
3.2 FBAR电学仿真 | 第33-38页 |
3.2.1 建立仿真库 | 第33-35页 |
3.2.2 不同压电材料对FBAR阻抗特性的影响 | 第35-36页 |
3.2.3 不同压电层厚度对FBAR阻抗特性的影响 | 第36-37页 |
3.2.4 不同电极材料对FBAR阻抗特性的影响 | 第37-38页 |
3.3 FBAR有限元仿真 | 第38-42页 |
3.3.1 有限元仿真原理 | 第38-39页 |
3.3.2 建模及参数设置 | 第39-40页 |
3.3.3 电极形状对谐振模态的影响 | 第40-41页 |
3.3.4 谐振面积对谐振模态的影响 | 第41-42页 |
3.3.5 谐振区域位移分布 | 第42页 |
3.4 本章小结 | 第42-43页 |
4 横膈膜型薄膜体声波谐振器制备工艺关键技术 | 第43-62页 |
4.1 器件结构加工流程设计 | 第43-44页 |
4.2 器件结构版图设计 | 第44-45页 |
4.3 PZT压电功能材料制备及表征 | 第45-50页 |
4.3.1 PZT薄膜的制备方法 | 第45-46页 |
4.3.2 Sol-Gel制备PZT薄膜 | 第46-48页 |
4.3.3 PZT薄膜的性能表征 | 第48-50页 |
4.4 FBAR器件结构关键工艺研究 | 第50-61页 |
4.4.1 紫外光刻技术研究 | 第50-53页 |
4.4.2 PZT压电膜通孔工艺 | 第53-54页 |
4.4.3 下电极图形化 | 第54-55页 |
4.4.4 上电极图形化 | 第55页 |
4.4.5 支撑层刻蚀工艺 | 第55-59页 |
4.4.6 背腔刻蚀工艺研究 | 第59-61页 |
4.5 本章小结 | 第61-62页 |
5 FBAR器件初步测试 | 第62-67页 |
5.1 测试系统搭建及初步测试分析 | 第62-63页 |
5.2 S参数测试 | 第63-66页 |
5.3 本章小结 | 第66-67页 |
6 总结与展望 | 第67-69页 |
6.1 论文的主要研究内容及结论 | 第67-68页 |
6.2 论文创新点 | 第68页 |
6.3 工作展望 | 第68-69页 |
参考文献 | 第69-75页 |
攻读硕士学位期间所取得的研究成果 | 第75-76页 |
致谢 | 第76-77页 |