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铌基超薄薄膜的制备、优化与表征

摘要第3-5页
Abstract第5-6页
第一章 绪论第12-42页
    1.1 超导热电子探测器第12-21页
        1.1.1 电磁波频谱及超导探测器的应用第12-14页
        1.1.2 超导热电子测辐射热计第14-17页
        1.1.3 超导纳米线单光子探测器第17-19页
        1.1.4 热电子探测器制备材料与铌基薄膜第19-21页
    1.2 超导薄膜制备方法第21-25页
        1.2.1 常用衬底材料第21-22页
        1.2.2 超导薄膜制备方法第22-24页
        1.2.3 磁控溅射法第24-25页
    1.3 超导薄膜表征方法第25-31页
        1.3.1 超导性能表征第25-27页
        1.3.2 薄膜形貌与结构表征第27-31页
        1.3.3 薄膜成分表征第31页
    1.4 本文框架第31-32页
    参考文献第32-42页
第二章 氮化铌薄膜第42-82页
    2.1 氮化铌薄膜制备方法第42-53页
        2.1.1 氮化铌薄膜性能及应用第42-43页
        2.1.2 磁控溅射系统第43页
        2.1.3 成膜关键参数及其优化方法第43-53页
    2.2 硅衬底上六氮五铌缓冲层及其优化第53-67页
        2.2.1 硅衬底上的缓冲层与六氮五铌缓冲层制备第53-57页
        2.2.2 缓冲层作用分析及薄膜结构性能表征第57-67页
    2.3 柔性衬底上的氮化铌薄膜第67-77页
        2.3.1 柔性衬底上的氮化铌薄膜的制备与优化第68-71页
        2.3.2 柔性氮化铌薄膜的表征第71-77页
    2.4 小结第77页
    参考文献第77-82页
第三章 高钛铌钛氮和铌钛薄膜第82-103页
    3.1 铌钛氮薄膜制备条件及优化第82-94页
        3.1.1 铌钛氮薄膜性能第82-83页
        3.1.2 制备条件及其优化方法第83-86页
        3.1.3 铌钛氮薄膜的表征第86-94页
    3.2 铌钛薄膜制备及表征第94-100页
    3.3 小结第100页
    参考文献第100-103页
第四章 掺杂铌薄膜第103-117页
    4.1 掺杂铌薄膜制备第103-106页
    4.2 氮化铝保护层及其优化第106-113页
    4.3 小结第113页
    参考文献第113-117页
第五章 铌基超薄薄膜的应用第117-134页
    5.1 氮化铌热电子测辐射热计第117-124页
        5.1.1 器件制备第118-119页
        5.1.2 器件表征及研究第119-124页
    5.2 掺杂铌热电子测辐射热计第124-129页
        5.2.1 器件制备第124-126页
        5.2.2 器件表征第126-129页
    5.3 在超导纳米线单光子探测器上的应用第129-132页
    5.4 小结第132页
    参考文献第132-134页
第六章 总结与展望第134-136页
致谢第136-137页
攻读博士学位期间的研究成果第137-140页

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