铌基超薄薄膜的制备、优化与表征
摘要 | 第3-5页 |
Abstract | 第5-6页 |
第一章 绪论 | 第12-42页 |
1.1 超导热电子探测器 | 第12-21页 |
1.1.1 电磁波频谱及超导探测器的应用 | 第12-14页 |
1.1.2 超导热电子测辐射热计 | 第14-17页 |
1.1.3 超导纳米线单光子探测器 | 第17-19页 |
1.1.4 热电子探测器制备材料与铌基薄膜 | 第19-21页 |
1.2 超导薄膜制备方法 | 第21-25页 |
1.2.1 常用衬底材料 | 第21-22页 |
1.2.2 超导薄膜制备方法 | 第22-24页 |
1.2.3 磁控溅射法 | 第24-25页 |
1.3 超导薄膜表征方法 | 第25-31页 |
1.3.1 超导性能表征 | 第25-27页 |
1.3.2 薄膜形貌与结构表征 | 第27-31页 |
1.3.3 薄膜成分表征 | 第31页 |
1.4 本文框架 | 第31-32页 |
参考文献 | 第32-42页 |
第二章 氮化铌薄膜 | 第42-82页 |
2.1 氮化铌薄膜制备方法 | 第42-53页 |
2.1.1 氮化铌薄膜性能及应用 | 第42-43页 |
2.1.2 磁控溅射系统 | 第43页 |
2.1.3 成膜关键参数及其优化方法 | 第43-53页 |
2.2 硅衬底上六氮五铌缓冲层及其优化 | 第53-67页 |
2.2.1 硅衬底上的缓冲层与六氮五铌缓冲层制备 | 第53-57页 |
2.2.2 缓冲层作用分析及薄膜结构性能表征 | 第57-67页 |
2.3 柔性衬底上的氮化铌薄膜 | 第67-77页 |
2.3.1 柔性衬底上的氮化铌薄膜的制备与优化 | 第68-71页 |
2.3.2 柔性氮化铌薄膜的表征 | 第71-77页 |
2.4 小结 | 第77页 |
参考文献 | 第77-82页 |
第三章 高钛铌钛氮和铌钛薄膜 | 第82-103页 |
3.1 铌钛氮薄膜制备条件及优化 | 第82-94页 |
3.1.1 铌钛氮薄膜性能 | 第82-83页 |
3.1.2 制备条件及其优化方法 | 第83-86页 |
3.1.3 铌钛氮薄膜的表征 | 第86-94页 |
3.2 铌钛薄膜制备及表征 | 第94-100页 |
3.3 小结 | 第100页 |
参考文献 | 第100-103页 |
第四章 掺杂铌薄膜 | 第103-117页 |
4.1 掺杂铌薄膜制备 | 第103-106页 |
4.2 氮化铝保护层及其优化 | 第106-113页 |
4.3 小结 | 第113页 |
参考文献 | 第113-117页 |
第五章 铌基超薄薄膜的应用 | 第117-134页 |
5.1 氮化铌热电子测辐射热计 | 第117-124页 |
5.1.1 器件制备 | 第118-119页 |
5.1.2 器件表征及研究 | 第119-124页 |
5.2 掺杂铌热电子测辐射热计 | 第124-129页 |
5.2.1 器件制备 | 第124-126页 |
5.2.2 器件表征 | 第126-129页 |
5.3 在超导纳米线单光子探测器上的应用 | 第129-132页 |
5.4 小结 | 第132页 |
参考文献 | 第132-134页 |
第六章 总结与展望 | 第134-136页 |
致谢 | 第136-137页 |
攻读博士学位期间的研究成果 | 第137-140页 |