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沟槽式肖特基势垒二极管电学性能研究

摘要第4-7页
Abstract第7-9页
第一章 绪论第13-33页
    §1.1 引言第13页
    §1.2 整流器的产生和发展第13-15页
        §1.2.1 整流器的产生第13-15页
        §1.2.2 整流器的发展第15页
    §1.3 肖特基型整流器件第15-23页
        §1.3.1 肖特基二极管的产生第15-16页
        §1.3.2 肖特基二极管的器件物理第16-21页
        §1.3.3 肖特基二极管研究的意义第21-23页
    §1.4 TMBS器件第23-28页
        §1.4.1 TMBS器件的产生和优势第23-26页
        §1.4.2 TMBS器件的应用第26-28页
    §1.5 本论文的主要研究内容和结构安排第28-31页
    参考文献第31-33页
第二章 传统TMBS器件电学特性研究第33-54页
    §2.1 引言第33页
    §2.2 TMBS器件与平面肖特基二极管器件性能对比第33-37页
        §2.2.1 TMBS器件结构和模拟使用的参数第33-34页
        §2.2.2 TMBS与平面肖特基二极管电学特性对比第34-37页
    §2.3 器件结构参数对TMBS器件性能的影响第37-46页
        §2.3.1 沟槽深度对TMBS性能的影响第37-40页
        §2.3.2 沟槽间宽度对TMBS性能的影响第40-43页
        §2.3.3 沟槽内壁氧化物厚度对TMBS性能的影响第43-46页
    §2.4 传统TMBS器件中直角沟槽对击穿电压的影响第46-49页
    §2.5 TMBS器件的制造工艺流程第49-51页
    §2.6 本章小结第51-53页
    参考文献第53-54页
第三章 沟槽形状对硅基沟槽式肖特基二极管电学特性影响的研究第54-68页
    §3.1 引言第54页
    §3.2 器件结构第54-55页
    §3.3 模拟结果第55-66页
        §3.3.1 圆角沟槽改善TMBS器件电学性能第55-58页
        §3.3.2 阶梯沟槽改善TMBS器件电学性能第58-66页
    §3.4 本章小结第66-67页
    参考文献第67-68页
第四章 高介电常数栅介质材料TMBS器件的性能研究第68-87页
    §4.1 引言第68-69页
    §4.2 器件结构第69-70页
    §4.3 模拟结果第70-83页
        §4.3.1 高介电常数栅介质材料TMBS器件的电学性能第70-75页
        §4.3.2 高介电常数栅介质材料TMBS器件结构参数对电学性能的影响第75-83页
    §4.4 本章小结第83-84页
    参考文献第84-87页
第五章 与CMOS工艺兼容的钛(Ti)肖特基势垒TMBS器件研究第87-100页
    §5.1 引言第87-88页
    §5.2 Ti作为肖特基金属的TMBS器件制备工艺研究第88-98页
        §5.2.1 Ti金属层厚度问题第88-90页
        §5.2.2 肖特基结最佳退火温度和时间第90-92页
        §5.2.3 wafer面内均匀性问题第92-98页
    §5.3 本章小结第98-99页
    参考文献第99-100页
第六章 聚苯胺水凝胶/铂复合材料作为葡萄糖氧化酶载体的高灵敏度葡萄糖传感器研究第100-116页
    §6.1 引言第100-102页
    §6.2 聚苯胺水凝胶/铂复合材料的制备第102页
    §6.3 聚苯胺水凝胶/铂复合材料的表征第102-105页
    §6.4 聚苯胺水凝胶/铂复合材料作为葡萄糖传感器的性能第105-112页
        §6.4.1 聚苯胺水凝胶/铂复合材料作为载体的电化学电极的制作步骤第106页
        §6.4.2 聚苯胺水凝胶/铂复合材料作为载体的葡萄糖传感器的电化学性能第106-112页
    §6.5 本章小结第112-114页
    参考文献第114-116页
第七章 总结与展望第116-119页
    §7.1 主要结论第116-117页
    §7.2 研究展望第117-119页
致谢第119-120页
攻读博士学位期间发表的文章及申请的专利第120-122页

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