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汞探针CV测试仪测量硅重掺衬底外延层电阻率的准确性和稳定性

摘要第1-4页
Abstract第4-6页
引言第6-7页
第一章 绪论第7-13页
   ·汞探针CV测试的发展介绍第7-8页
   ·汞探针CV测试系统概述第8-13页
第二章 汞探针CV测试的问题分析及研究试验方案的设计第13-23页
   ·公司原来的CV测试及监控方法第13-19页
   ·CV测试偏移所导致的生产异常问题第19-21页
   ·CV测试偏移的原因分析及研究的方向第21-22页
   ·小结第22-23页
第三章 工艺试验第23-32页
   ·汞金属的更换对电阻率测试的影响第23-25页
   ·在CrO3处理后电阻率值随时间推移的变化第25-29页
   ·CrO3处理的不同时间对测试结果的影响第29-31页
   ·其它因素对电阻率的影响第31页
   ·小结第31-32页
第四章 实验结果讨论及测试规范制定第32-33页
第五章 总结和展望第33-34页
参考文献第34-35页
致谢第35-36页

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