异型热管CVD反应器硅烷分解过程流场模拟研究
| 摘要 | 第4-5页 |
| ABSTRACT | 第5-6页 |
| 第1章 文献综述 | 第10-24页 |
| 1.1 课题背景 | 第10-11页 |
| 1.1.1 课题来源 | 第10-11页 |
| 1.1.2 课题研究意义 | 第11页 |
| 1.2 多晶硅生产工艺 | 第11-17页 |
| 1.2.1 多晶硅介绍 | 第11-12页 |
| 1.2.2 生产工艺分类 | 第12-17页 |
| 1.3 CVD反应器 | 第17-20页 |
| 1.3.1 CVD技术简介 | 第17-18页 |
| 1.3.2 CVD反应器分类 | 第18-20页 |
| 1.4 计算流体力学 | 第20-23页 |
| 1.4.1 CFD概论 | 第20页 |
| 1.4.2 CFD模拟分析简述 | 第20-23页 |
| 1.5 本课题的研究内容 | 第23-24页 |
| 第2章 CVD反应器结构及工艺 | 第24-40页 |
| 2.1 CVD反应器结构 | 第24-31页 |
| 2.1.1 3 对棒CVD反应器 | 第26-28页 |
| 2.1.2 9 对棒CVD反应器 | 第28页 |
| 2.1.3 两种CVD反应器对比 | 第28-31页 |
| 2.2 CVD反应器工艺 | 第31-39页 |
| 2.2.1 进料气组成 | 第31-33页 |
| 2.2.2 进料气热力学性质 | 第33-38页 |
| 2.2.3 进料气流量 | 第38-39页 |
| 2.3 本章小结 | 第39-40页 |
| 第3章 CVD反应器流场行为分析 | 第40-60页 |
| 3.1 模型建立 | 第40页 |
| 3.2 网格划分 | 第40-42页 |
| 3.3 求解器设置 | 第42-47页 |
| 3.3.1 模拟条件简化 | 第42页 |
| 3.3.2 进料气物性参数 | 第42-43页 |
| 3.3.3 动力学控制方程 | 第43-46页 |
| 3.3.4 边界条件设定 | 第46-47页 |
| 3.4 流场模拟结果分析与研究 | 第47-59页 |
| 3.4.1 速度场模拟结果分析与研究 | 第47-53页 |
| 3.4.2 温度场模拟结果分析与研究 | 第53-59页 |
| 3.5 本章小结 | 第59-60页 |
| 第4章 引入硅烷反应的反应器流场行为分析 | 第60-74页 |
| 4.1 沉积反应模拟 | 第60-63页 |
| 4.1.1 沉积反应简化 | 第60-61页 |
| 4.1.2 化学反应模型 | 第61-62页 |
| 4.1.3 求解器设置 | 第62-63页 |
| 4.2 沉积反应模拟结果分析与研究 | 第63-67页 |
| 4.2.1 沉积速率 | 第63-65页 |
| 4.2.2 硅烷浓度 | 第65-67页 |
| 4.3 化学反应热对温度场的影响 | 第67-71页 |
| 4.3.1 反应热计算 | 第67-68页 |
| 4.3.2 不同条件下温度分布对比 | 第68-71页 |
| 4.4 本章小结 | 第71-74页 |
| 第5章 结论与展望 | 第74-76页 |
| 5.1 结论 | 第74-75页 |
| 5.2 展望 | 第75-76页 |
| 参考文献 | 第76-82页 |
| 附录 | 第82-86页 |
| 发表论文和参加科研情况说明 | 第86-88页 |
| 致谢 | 第88-89页 |
