摘要 | 第1-7页 |
ABSTRACT | 第7-12页 |
第一章 文献综述 | 第12-30页 |
·引言 | 第12-13页 |
·钼电极的发展与应用现状 | 第13-14页 |
·钼电极的发展 | 第13页 |
·钼电极的应用现状 | 第13-14页 |
·国内外抗氧化涂层研究现状 | 第14-23页 |
·包镀金属涂层 | 第15页 |
·电镀金属涂层 | 第15-16页 |
·喷涂金属涂层 | 第16-17页 |
·熔烧涂层 | 第17-18页 |
·用热扩散方法形成的硅化物涂层 | 第18-19页 |
·MoSi_2基涂层 | 第19-21页 |
·氧化物涂层 | 第21-23页 |
·抗氧化涂层的制备方法 | 第23-24页 |
·高温抗氧化涂层的作用机理与基本要求 | 第24-26页 |
·抗氧化涂层的作用机理 | 第24-25页 |
·抗氧化涂层的设计原则 | 第25-26页 |
·选题的背景和意义 | 第26-27页 |
·本文的研究路线和主要内容 | 第27-30页 |
第二章 实验 | 第30-36页 |
·实验材料和设备 | 第30页 |
·实验材料 | 第30页 |
·实验设备 | 第30页 |
·分析检测 | 第30-31页 |
·玻璃粉料软化点测试 | 第31页 |
·抗氧化性能分析 | 第31页 |
·能谱(EDS)分析 | 第31页 |
·扫描电镜(SEM)分析 | 第31页 |
·X-ray衍射(XRD)分析 | 第31页 |
·涂层的设计 | 第31页 |
·涂层组分的选择 | 第31-36页 |
·基釉组分的选择 | 第32页 |
·热力学计算数据 | 第32-36页 |
第三章 玻璃基抗氧化涂层的制备及探讨 | 第36-48页 |
·基釉的制备过程 | 第36-38页 |
·高温熔炼过程的讨论 | 第36-37页 |
·熔体的冷却过程 | 第37页 |
·球磨时间的讨论 | 第37-38页 |
·调墨油的制备 | 第38页 |
·玻璃基涂层釉浆的的制备流程及方法 | 第38-40页 |
·玻璃基涂层的使用过程 | 第40-43页 |
·玻璃基涂层组元的作用 | 第40-42页 |
·玻璃基涂层的致密化过程 | 第42-43页 |
·影响玻璃基涂层使用的因素 | 第43-45页 |
·热膨胀系数匹配性 | 第43-44页 |
·铺展性 | 第44-45页 |
·玻璃基涂层使用升温过程 | 第45页 |
·涂层与基体的结合 | 第45-46页 |
本章小结 | 第46-48页 |
第四章 ZrO_2对玻璃基涂层抗氧化效果的影响 | 第48-58页 |
·引言 | 第48-49页 |
·涂层的氧化及抗氧化机理 | 第49页 |
·基釉的基本性质 | 第49-50页 |
·ZrO_2对涂层性能的影响研究 | 第50-54页 |
·ZrO_2对涂层使用的影响 | 第50-51页 |
·ZrO_2对热膨胀系数的影响 | 第51-53页 |
·ZrO_2对涂层的抗氧化效果 | 第53-54页 |
·涂层厚度对抗氧化效果的影响 | 第54-56页 |
·本章小结 | 第56-58页 |
第五章 预烧对ZrO_2-GLASS涂层的抗氧化效果的影响 | 第58-70页 |
·引言 | 第58页 |
·预烧工艺探讨 | 第58-59页 |
·液相烧结致密化过程 | 第58-59页 |
·涂层的液相烧结 | 第59页 |
·预烧工艺的确定 | 第59-60页 |
·预烧时间对ZrO_2-Glass抗氧化效果的影响 | 第60-62页 |
·预烧时间对ZrO_2-Glass涂层形成的影响 | 第60-61页 |
·预烧时间对ZrO_2-Glass涂层抗氧化效果的影响 | 第61-62页 |
·预烧温度对ZrO_2-Glass涂层抗氧化效果的影响 | 第62-63页 |
·预烧温度对ZrO_2-Glass涂层形成的影响 | 第62页 |
·预烧温度对ZrO_2-Glass涂层抗氧化效果的影响 | 第62-63页 |
·ZrO_2-Glass涂层保护功能的评价 | 第63-67页 |
·ZrO_2-Glass涂层抗氧化性能测试 | 第64-65页 |
·扫描电镜(SEM)分析 | 第65页 |
·X-ray衍射(XRD)分析 | 第65-67页 |
·本章小结 | 第67-70页 |
第六章 总结与展望 | 第70-72页 |
·工作总结 | 第70-71页 |
·展望 | 第71-72页 |
参考文献 | 第72-76页 |
攻读硕士期间发表的文章及所获奖励 | 第76-77页 |
1 学术期刊 | 第76页 |
2 申请专利 | 第76页 |
3 所获奖励 | 第76-77页 |
致谢 | 第77页 |