磁流变抛光工艺优化及关键技术研究与应用
| 摘要 | 第1-7页 |
| ABSTRACT | 第7-9页 |
| 目录 | 第9-12页 |
| 第一章 绪论 | 第12-24页 |
| ·引言 | 第12-13页 |
| ·磁流变抛光研究的背景和意义 | 第13-15页 |
| ·磁流变抛光技术研究的背景 | 第13-14页 |
| ·磁流变抛光研究的意义 | 第14-15页 |
| ·超精密光学表面的几种主要的加工方法 | 第15-21页 |
| ·离子束抛光方法 | 第15-16页 |
| ·在线电解修整磨削抛光 | 第16-17页 |
| ·等离子体辅助抛光(PACE) | 第17页 |
| ·液体喷射抛光 | 第17-18页 |
| ·化学机械抛光 | 第18-19页 |
| ·磁流变抛光 | 第19-21页 |
| ·国内外磁流变抛光技术发展现状 | 第21-22页 |
| ·国外磁流变抛光技术发展现状 | 第21-22页 |
| ·国内磁流变抛光技术发展现状 | 第22页 |
| ·论文主要研究内容及章节安排 | 第22-24页 |
| 第二章 磁流变抛光机理及抛光装置的实现 | 第24-36页 |
| ·抛光材料的去除机理概述 | 第24-26页 |
| ·机械作用学说 | 第24-25页 |
| ·化学作用学说 | 第25-26页 |
| ·流变学说 | 第26页 |
| ·玻璃材料的特性概述 | 第26-28页 |
| ·磁流变抛光机理研究 | 第28-31页 |
| ·磁流变液的组成 | 第28-29页 |
| ·磁流变效应 | 第29-30页 |
| ·磁流变抛光材料去除机理 | 第30-31页 |
| ·磁流变抛光装置的实现 | 第31-33页 |
| ·实验设备及仪器 | 第33-35页 |
| ·本章小结 | 第35-36页 |
| 第三章 磁流变抛光材料去除模型研究 | 第36-58页 |
| ·材料去除模型的理论分析 | 第36-40页 |
| ·压力P的求解 | 第37-39页 |
| ·相对速度V的求解 | 第39-40页 |
| ·磁流变抛光驻留时间算法研究 | 第40-48页 |
| ·常用的驻留时间求解算法 | 第40-44页 |
| ·驻留时间求解算法 | 第44-48页 |
| ·磁流变抛光材料去除实验 | 第48-53页 |
| ·材料去除实验流程 | 第48-49页 |
| ·材料去除形状实验 | 第49-53页 |
| ·磁流变抛光工艺综合效应模型的构建 | 第53-57页 |
| ·本章小结 | 第57-58页 |
| 第四章 磁流变抛光工艺实验研究 | 第58-68页 |
| ·磁流变抛光实验前的准备工作 | 第58-61页 |
| ·磁流变抛光实验目的及条件 | 第58-59页 |
| ·磁流变抛光轨迹路径分析 | 第59-60页 |
| ·磁流变抛光工艺参数选取条件 | 第60-61页 |
| ·磁流变抛光工艺参数的正交实验分析 | 第61-66页 |
| ·正交实验设计 | 第62-63页 |
| ·结果分析 | 第63-66页 |
| ·本章小结 | 第66-68页 |
| 第五章 基于灰色理论的磁流变抛光工艺优化研究 | 第68-78页 |
| ·灰色系统理论概述 | 第68-69页 |
| ·灰色系统理论的提出 | 第68页 |
| ·灰色关联分析 | 第68-69页 |
| ·基于灰色关联分析的磁流变抛光参数优化 | 第69-71页 |
| ·灰色关联度 | 第69-70页 |
| ·单目标优势分析 | 第70-71页 |
| ·多目标优势分析 | 第71页 |
| ·实验与灰色关联度分析 | 第71-77页 |
| ·灰色关联度计算 | 第71-73页 |
| ·单目标因素优化 | 第73-74页 |
| ·多目标因素优化 | 第74-75页 |
| ·多目标因素优化实验验证 | 第75-77页 |
| ·本章小结 | 第77-78页 |
| 第六章 总结与展望 | 第78-81页 |
| ·工作总结 | 第78-79页 |
| ·工作展望 | 第79-81页 |
| 参考文献 | 第81-85页 |
| 攻读硕士学位期间发表的学术论文和申请专利 | 第85-86页 |
| 致谢 | 第86页 |
