摘要 | 第4-6页 |
Abstract | 第6-7页 |
第一章 引言 | 第11-12页 |
第二章 文献综述 | 第12-29页 |
2.1 M_xWO_3钨青铜材料概述 | 第12页 |
2.2 M_xWO_3钨青铜的结构 | 第12-15页 |
2.2.1 M_xWO_3钨青铜的结构与掺入离子的关系 | 第13-14页 |
2.2.2 M_xWO_3钨青铜结构与制备方法的关系 | 第14-15页 |
2.3 M_xWO_3钨青铜的制备方法 | 第15-21页 |
2.3.1 溶剂化学还原法 | 第17-18页 |
2.3.2 高温固相还原法 | 第18页 |
2.3.3 电化学还原法 | 第18-19页 |
2.3.4 稀土多元渗法 | 第19页 |
2.3.5 微波辐射法 | 第19页 |
2.3.6 超临界法 | 第19-20页 |
2.3.7 机械化学方法 | 第20页 |
2.3.8 超声波喷雾热分解方法 | 第20页 |
2.3.9 气相化学传输法 | 第20页 |
2.3.10 离子交换法 | 第20-21页 |
2.4 M_xWO_3钨青铜的性能 | 第21-28页 |
2.4.1 光学性能的研究 | 第21-26页 |
2.4.1.1 光致变色性能 | 第22页 |
2.4.1.2 电致变色性能 | 第22-23页 |
2.4.1.3 近红外遮蔽性能 | 第23-24页 |
2.4.1.4 光学机理小结 | 第24-26页 |
2.4.2 电学性能的研究 | 第26-28页 |
2.4.2.1 M_xWO_3钨青铜的电阻率 | 第26-27页 |
2.4.2.2 M_xWO_3钨青铜的超导性能 | 第27-28页 |
2.5 选题的目的、意义以及主要内容 | 第28-29页 |
第三章 实验方法 | 第29-37页 |
3.1 实验所用的化学药品 | 第29-30页 |
3.2 钨酸钠原料的处理 | 第30-31页 |
3.3 Cs_xWO_3粉体的制备 | 第31-33页 |
3.3.1 以氯化铯为铯源制备Cs_xWO_3粉体 | 第31-32页 |
3.3.1.1 采用沉淀法制备Cs_xWO_3粉体 | 第31页 |
3.3.1.2 采用水热法制备Cs_xWO_3粉体 | 第31-32页 |
3.3.2 以碳酸铯为铯源制备Cs_xWO_3粉体 | 第32-33页 |
3.4 Cs_xWO_3薄膜的制备 | 第33-34页 |
3.5 结构表征及性能测试 | 第34-37页 |
3.5.1 粉体结构、微观形貌表征 | 第34-35页 |
3.5.1.1 X射线衍射仪(XRD) | 第34-35页 |
3.5.1.2 扫描电镜(SEM) | 第35页 |
3.5.1.3 粒度分析 | 第35页 |
3.5.1.4 比表面积分析 | 第35页 |
3.5.2 性能表征 | 第35-37页 |
3.5.2.1 粉体光吸收和光致变色性能表征 | 第35页 |
3.5.2.2 薄膜的近红外遮蔽性能和光致变色性能表征 | 第35-36页 |
3.5.2.3 薄膜的隔热性能测试 | 第36-37页 |
第四章 结果与讨论 | 第37-65页 |
4.1 pH值和钨酸钠浓度对溶胶稳定性的影响 | 第37页 |
4.2 以氯化铯为铯源制备的Cs_xWO_3粉体结构性能分析 | 第37-40页 |
4.2.1 Cs_xWO_3粉体结构形貌分析 | 第37-39页 |
4.2.2 Cs_xWO_3粉体的光吸收性能分析 | 第39-40页 |
4.2.3 小结 | 第40页 |
4.3 以碳酸铯为铯源制备Cs_xWO_3粉体的工艺和结构性能研究 | 第40-65页 |
4.3.1 间断水热反应对Cs_xWO_3粉体的结构性能的影响 | 第40-42页 |
4.3.2 水热反应时间对Cs_xWO_3粉体的结构性能的影响 | 第42-44页 |
4.3.3 柠檬酸浓度对Cs_xWO_3粉体的结构性能的影响 | 第44-51页 |
4.3.3.1 Cs_xWO_3粉体的结构形貌分析 | 第44-46页 |
4.3.3.2 Cs_xWO_3粉体的光吸收性能和光致变色性能分析 | 第46-49页 |
4.3.3.3 Cs_xWO_3薄膜的光致变色和近红外遮蔽性能分析 | 第49-51页 |
4.3.4 乙醇加入量对Cs_xWO_3粉体的结构性能的影响 | 第51-58页 |
4.3.4.1 Cs_xWO_3结构形貌分析 | 第51-54页 |
4.3.4.2 Cs_xWO_3粉体的光吸收性能和光致变色性能分析 | 第54-55页 |
4.3.4.3 Cs_xWO_3薄膜的光致变色和近红外遮蔽性能分析 | 第55-57页 |
4.3.4.3 Cs_xWO_3薄膜的隔热性能 | 第57-58页 |
4.3.5 铯掺入量对Cs_xWO_3结构性能的影响 | 第58-61页 |
4.3.5.1 Cs_xWO_3粉体的结构分析 | 第58-59页 |
4.3.5.2 Cs_xWO_3薄膜的近红外遮蔽性能 | 第59-60页 |
4.3.5.3 Cs_xWO_3薄膜的隔热性能 | 第60-61页 |
4.3.6 热处理对Cs_xWO_3结构性能的影响 | 第61-65页 |
4.3.6.1 Cs_xWO_3粉体结构形貌分析 | 第61-63页 |
4.3.6.2 热处理对Cs_xWO_3薄膜近红外遮蔽性能的影响 | 第63-64页 |
4.3.6.3 热处理对Cs_xWO_3薄膜隔热性能的影响 | 第64-65页 |
第五章 结论 | 第65-66页 |
参考文献 | 第66-72页 |
致谢 | 第72-73页 |
附录 作者在硕士期间的主要科研成果 | 第73页 |