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电子辐照条件对n-Si二极管缺陷能级及性能影响的研究

摘要第4-5页
Abstract第5-6页
第1章 绪论第9-15页
    1.1 课题的背景及意义第9-11页
    1.2 国内外研究现状第11-13页
        1.2.1 国外研究现状第11-12页
        1.2.2 国内研究现状第12-13页
    1.3 本文研究内容第13-15页
第2章 辐照及少子寿命控制技术第15-21页
    2.1 辐照效应及辐照损伤第15-16页
    2.2 辐照射线及辐照源第16-18页
    2.3 辐照中的物理量及其计算方式第18-19页
    2.4 寿命控制技术对比第19-20页
    2.5 本章小结第20-21页
第3章 电子辐照条件对缺陷能级的影响第21-35页
    3.1 电子辐照实验第21-23页
    3.2 深能级瞬态谱基本测试原理第23-26页
        3.2.1 深能级及其发射和俘获作用第23-25页
        3.2.2 深能级瞬态电容第25页
        3.2.3 率窗法测深能级瞬态谱第25-26页
    3.3 电子辐照对缺陷能级的影响及分析第26-32页
        3.3.1 电子辐照条件与少子寿命的关系第26-27页
        3.3.2 电子辐照条件与缺陷能级的关系第27-32页
    3.4 本章小结第32-35页
第4章 电子辐照条件对电学性能的影响第35-53页
    4.1 电学特性实验第35-37页
    4.2 电子辐照条件对电学特性的影响及分析第37-50页
        4.2.1 正向特性第37-41页
        4.2.2 反向特性第41-46页
        4.2.3 开关特性第46-47页
        4.2.4 退火实验第47-50页
    4.3 通过电子辐照条件控制器件缺陷能级及电学特性第50-51页
    4.4 本章小结第51-53页
结论第53-55页
参考文献第55-59页
攻读硕士学位期间所发表的学术论文第59-61页
致谢第61-62页

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