| 摘要 | 第2-3页 |
| Abstract | 第3-4页 |
| 1 绪论 | 第7-15页 |
| 1.1 课题背景 | 第7-9页 |
| 1.1.1 钛及钛合金的特点与应用 | 第7-8页 |
| 1.1.2 镍及镍基合金的特点与应用 | 第8-9页 |
| 1.2 钛合金和镍基合金超精密加工现状 | 第9-12页 |
| 1.3 化学机械抛光技术简介 | 第12-13页 |
| 1.4 课题研究目的与意义 | 第13-14页 |
| 1.5 课题来源及本文的研究内容 | 第14-15页 |
| 1.5.1 课题来源 | 第14页 |
| 1.5.2 主要研究内容 | 第14-15页 |
| 2 钛合金新型抛光液的研制及其化学机械抛光 | 第15-29页 |
| 2.1 研磨抛光和检测设备 | 第15-16页 |
| 2.2 钛合金新型化学机械抛光液的研制 | 第16-25页 |
| 2.2.1 pH调节剂种类和pH值的选择 | 第16-18页 |
| 2.2.2 氧化剂种类及其浓度的选择 | 第18-20页 |
| 2.2.3 磨料种类及其粒径尺寸的选择 | 第20-23页 |
| 2.2.4 磨料浓度的选择 | 第23-25页 |
| 2.3 钛合金化学机械抛光 | 第25-28页 |
| 2.3.1 试验样品研磨 | 第25-26页 |
| 2.3.2 抛光垫的选择 | 第26-27页 |
| 2.3.3 钛合金化学机械抛光 | 第27-28页 |
| 2.4 本章小结 | 第28-29页 |
| 3 钛合金化学机械抛光机理研究 | 第29-46页 |
| 3.1 电化学实验 | 第29-36页 |
| 3.1.1 电化学实验原理 | 第29-31页 |
| 3.1.2 电化学实验设备 | 第31-32页 |
| 3.1.3 钛合金电化学实验 | 第32-35页 |
| 3.1.4 小结 | 第35-36页 |
| 3.2 XPS实验原理及样品制备 | 第36-38页 |
| 3.2.1 XPS实验原理 | 第36-37页 |
| 3.2.2 XPS样品制备 | 第37-38页 |
| 3.3 XPS实验数据分析 | 第38-44页 |
| 3.3.1 样品的XPS全谱分析 | 第39-40页 |
| 3.3.2 样品的XPS精细谱分析 | 第40-44页 |
| 3.4 本章小结 | 第44-46页 |
| 4 镍基合金化学机械抛光及其抛光机理研究 | 第46-62页 |
| 4.1 镍基合金机械抛光 | 第46-49页 |
| 4.1.1 抛光垫的选择 | 第46-47页 |
| 4.1.2 磨粒的选择 | 第47-48页 |
| 4.1.3 机械抛光工艺优化 | 第48-49页 |
| 4.2 镍基合金化学机械抛光 | 第49-52页 |
| 4.3 镍基合金XPS实验 | 第52-60页 |
| 4.3.1 不同抛光液浸泡后C 2000 表面XPS能谱 | 第53-58页 |
| 4.3.2 CMP后C 2000 表面XPS能谱 | 第58-60页 |
| 4.4 本章小结 | 第60-62页 |
| 结论 | 第62-63页 |
| 参考文献 | 第63-67页 |
| 攻读硕士学位期间发表学术论文情况 | 第67-68页 |
| 致谢 | 第68-70页 |