| 摘要 | 第4-5页 |
| abstract | 第5-6页 |
| 注释表 | 第14-15页 |
| 第一章 绪论 | 第15-28页 |
| 1.1 引言 | 第15页 |
| 1.2 拉伸模具简介 | 第15-16页 |
| 1.2.1 拉伸模具的结构组成及作用 | 第15-16页 |
| 1.2.2 拉伸模具的应用 | 第16页 |
| 1.2.3 拉伸模具的发展 | 第16页 |
| 1.3 金刚石膜的简介 | 第16-18页 |
| 1.3.1 金刚石的结构 | 第16-17页 |
| 1.3.2 金刚石的性质及应用 | 第17-18页 |
| 1.4 CVD金刚石膜的制备方法 | 第18-20页 |
| 1.4.1 热丝CVD法（Hot Filament CVD） | 第18-19页 |
| 1.4.2 直流等离子体喷射CVD法（Direct Current Plasma Jet CVD） | 第19页 |
| 1.4.3 微波等离子体CVD法（Microwave Plasma CVD） | 第19-20页 |
| 1.5 CVD金刚石膜的抛光方法 | 第20-24页 |
| 1.5.1 机械抛光法（Mechanical Polishing） | 第20-21页 |
| 1.5.2 化学-机械抛光法（Chemical-AssistedMechanical Polishing and planarization） | 第21页 |
| 1.5.3 热化学抛光法 | 第21-22页 |
| 1.5.4 离子束抛光法（Ion Beam Polishing） | 第22页 |
| 1.5.5 激光抛光法（Laser Polishing） | 第22-23页 |
| 1.5.6 各种抛光方法的比较 | 第23-24页 |
| 1.5.7 摩擦化学抛光技术简介 | 第24页 |
| 1.6 本课题研究的意义及内容 | 第24-28页 |
| 1.6.1 课题研究的意义 | 第24-25页 |
| 1.6.2 课题研究的内容及论文框架 | 第25-28页 |
| 第二章 大孔径CVD金刚石涂层拉伸模具抛光设备研制 | 第28-43页 |
| 2.1 引言 | 第28页 |
| 2.2 抛光设备方案设计 | 第28-29页 |
| 2.2.1 抛光方法的选择 | 第28页 |
| 2.2.2 抛光设备的设计原理 | 第28-29页 |
| 2.2.3 抛光设备设计方案的确定 | 第29页 |
| 2.3 抛光设备的设计要求 | 第29-30页 |
| 2.4 抛光设备的主要技术参数 | 第30页 |
| 2.5 抛光设备机械结构设计 | 第30-36页 |
| 2.5.1 抛光设备的模块划分及各模块简介 | 第30-31页 |
| 2.5.2 床身模块设计 | 第31页 |
| 2.5.3 模具装夹机构的设计 | 第31-32页 |
| 2.5.4 抛光棒夹持机构的设计 | 第32-35页 |
| 2.5.5 对刀机构设计 | 第35-36页 |
| 2.6 抛光设备的控制系统设计 | 第36-41页 |
| 2.6.1 电主轴控制模块 | 第37-39页 |
| 2.6.2 模具旋转控制模块 | 第39-40页 |
| 2.6.3 往复运动控制模块 | 第40页 |
| 2.6.4 进刀机构控制模块 | 第40-41页 |
| 2.6.5 其它 | 第41页 |
| 2.7 抛光设备整体结构 | 第41-42页 |
| 2.8 本章小结 | 第42-43页 |
| 第三章 摩擦化学抛光棒的制备及性能研究 | 第43-56页 |
| 3.1 引言 | 第43页 |
| 3.2 粉末冶金技术简介 | 第43页 |
| 3.3 抛光棒材料的选择 | 第43-46页 |
| 3.3.1 金刚石石墨化理论 | 第43-45页 |
| 3.3.2 摩擦化学对材料性能的要求 | 第45-46页 |
| 3.3.3 摩擦化学抛光棒材料的确定 | 第46页 |
| 3.4 抛光棒的研制 | 第46-49页 |
| 3.4.1 材料配方比例 | 第46页 |
| 3.4.2 工艺路线 | 第46-47页 |
| 3.4.3 机械合金化 | 第47-48页 |
| 3.4.4 金属粉末的热压烧结 | 第48-49页 |
| 3.5 抛光棒的性能检测 | 第49-55页 |
| 3.6 本章小结 | 第55-56页 |
| 第四章 摩擦化学抛光棒抛光金刚石膜试验研究 | 第56-65页 |
| 4.1 引言 | 第56页 |
| 4.2 试验方案 | 第56页 |
| 4.3 试验条件 | 第56-58页 |
| 4.3.1 试验材料及设备 | 第56页 |
| 4.3.2 检测设备 | 第56-58页 |
| 4.4 试验方法及检测指标 | 第58-59页 |
| 4.4.1 试验方法 | 第58-59页 |
| 4.4.2 检测指标 | 第59页 |
| 4.5 试验结果与分析 | 第59-64页 |
| 4.6 本章小结 | 第64-65页 |
| 第五章 大孔径拉伸模具CVD金刚石薄膜抛光优化工艺方案研究 | 第65-77页 |
| 5.1 引言 | 第65页 |
| 5.2 实验条件 | 第65-68页 |
| 5.2.1 模具型号的选择 | 第65-67页 |
| 5.2.2 CVD金刚石涂层的制备 | 第67-68页 |
| 5.3 抛光方案及检测指标 | 第68-69页 |
| 5.3.1 抛光方案 | 第68页 |
| 5.3.2 检测指标 | 第68-69页 |
| 5.4 实验设备 | 第69-71页 |
| 5.4.1 抛光设备 | 第69页 |
| 5.4.2 检测分析设备 | 第69-71页 |
| 5.5 粗抛实验设计 | 第71-74页 |
| 5.5.1 转速对抛光效果的研究 | 第71-72页 |
| 5.5.2 抛光压力对抛光效果的研究 | 第72-74页 |
| 5.6 精抛实验设计 | 第74-76页 |
| 5.6.1 转速对抛光效果的研究 | 第74-75页 |
| 5.6.2 抛光压力对抛光效果的研究 | 第75-76页 |
| 5.7 本章小结 | 第76-77页 |
| 第六章 总结与展望 | 第77-79页 |
| 6.1 总结 | 第77-78页 |
| 6.2 展望 | 第78-79页 |
| 参考文献 | 第79-84页 |
| 致谢 | 第84-85页 |
| 攻读硕士期间研究成果及发表的论文 | 第85页 |
