首页--工业技术论文--无线电电子学、电信技术论文--电子元件、组件论文--电声器件论文

硅麦克风封装关键工艺研究

摘要第2-3页
ABSTRACT第3页
第一章 绪论第6-17页
    1.1 麦克风及MEMS 简介第6页
    1.2 基于MEMS 技术的硅麦克风简介第6-13页
        1.2.1.M EMS 技术简介第6-8页
        1.2.2 硅麦克风工作原理第8-9页
        1.2.3 硅麦克风的特点第9-11页
        1.2.4 硅麦克风的应用第11-12页
        1.2.5 硅麦克风应用的国内外市场现状第12-13页
    1.3 硅麦克风的封装技术第13-16页
        1.3.1 硅麦克风的封装技术及发展趋势第13-15页
        1.3.2 硅麦克风的封装技术难点与挑战第15-16页
    1.4 本文研究目的与内容第16-17页
第二章 实验方案第17-20页
    2.1 硅麦克风的结构原理及封装工艺流程第17-18页
    2.2 实验方法第18-19页
        2.2.1. 硅麦克风MEMS贴片工艺的优化研究第18页
        2.2.2. 硅麦克风MEMS芯片引线键合工艺的优化研究第18页
        2.2.3 基板焊点的失效分析第18-19页
    2.3 实验设计(DOE)简介第19-20页
第三章 硅麦克风MEMS 贴片工艺的优化研究第20-30页
    3.1 引言第20页
    3.2 硅麦克风MEMS 贴片的技术要求第20-24页
        3.2.1. MEMS的贴片工艺对贴片强度的要求第22-23页
        3.2.2. MEMS的贴片工艺对MEMS封装气密性的要求第23-24页
    3.3 实验方法第24-25页
    3.4 实验结果第25-29页
        3.4.1 胶水的选择第25-26页
        3.4.2.M EMS 芯片贴片参数优化第26-29页
        3.4.3 实验结果分析第29页
    3.5 本章小结第29-30页
第四章 硅麦克风引线键合工艺优化研究第30-42页
    4.1 引言第30-33页
    4.2 硅麦克风引线键合的工艺要求第33-34页
    4.3 实验方法第34-35页
    4.4 实验结果第35-41页
        4.4.1 M EMS 芯片焊盘镀金层对可焊性的影响第36-37页
        4.4.2 IC 焊盘上植球参数的优化第37-40页
        4.4.3 实验结果分析第40-41页
    4.5 本章小结第41-42页
第五章 硅麦克风IC 芯片与化学镍金基板引线键合工艺优化研究第42-63页
    5.1 引言第42页
    5.2 IC芯片与化学镍金基板引线键合工艺要求第42-43页
    5.3 实验方法第43-44页
    5.4 实验结果第44-62页
        5.4.1 等离子清洗对引线键合强度第44-49页
        5.4.2 键合温度的影响第49-50页
        5.4.3 植球第一点键合工艺参数优化第50-56页
        5.4.4 植球第二点键合工艺参数优化第56-60页
        5.4.5 键合劈刀尺寸的影响第60-62页
    5.5 本章小结第62-63页
第六章 课题结论第63-64页
参考文献第64-67页
致谢第67-68页
攻读学位期间发表的学术论文目录第68-69页

论文共69页,点击 下载论文
上一篇:中职学校实训基地建设与管理研究
下一篇:无线通信中差分空时分组码技术研究