| 摘要 | 第4-6页 |
| ABSTRACT | 第6-7页 |
| 第1章 绪论 | 第10-22页 |
| 1.1 超滤技术在饮用水处理中的研究应用背景 | 第10-14页 |
| 1.1.1 地表水源情况 | 第10-11页 |
| 1.1.2 超滤技术的应用现状 | 第11-13页 |
| 1.1.3 超滤技术的优势与局限 | 第13-14页 |
| 1.2 天然有机物对膜污染的影响 | 第14-16页 |
| 1.2.1 天然有机物 | 第14页 |
| 1.2.2 NOM性质与膜污染之间的关联 | 第14-16页 |
| 1.2.3 膜污染控制的主要思路 | 第16页 |
| 1.3 膜前预处理技术的研究进展 | 第16-20页 |
| 1.3.1 混凝预处理 | 第16-17页 |
| 1.3.2 吸附预处理 | 第17-18页 |
| 1.3.3 氧化预处理 | 第18页 |
| 1.3.4 三种预处理技术的比较 | 第18-19页 |
| 1.3.5 高级氧化技术与膜工艺的组合 | 第19-20页 |
| 1.4 课题的主要研究内容及意义 | 第20-22页 |
| 1.4.1 课题的目的和意义 | 第20-21页 |
| 1.4.2 主要研究内容和技术路线图 | 第21-22页 |
| 第2章 实验材料与方法 | 第22-30页 |
| 2.1 实验材料 | 第22-26页 |
| 2.1.1 实验用水 | 第22页 |
| 2.1.2 实验装置 | 第22-25页 |
| 2.1.3 药品与仪器 | 第25-26页 |
| 2.2 检测和分析方法 | 第26-30页 |
| 2.2.1 主要水质指标 | 第26页 |
| 2.2.2 膜污染评价指标 | 第26-27页 |
| 2.2.3 有机物分子量分布 | 第27-28页 |
| 2.2.4 有机物亲疏水特性分析 | 第28-29页 |
| 2.2.5 三维荧光分析 | 第29页 |
| 2.2.6 扫描电镜分析 | 第29页 |
| 2.2.7 傅里叶红外光谱扫描 | 第29-30页 |
| 第3章 UV/PDS体系对原水预处理的效果 | 第30-53页 |
| 3.1 原水水质检测 | 第30-35页 |
| 3.1.1 常规水质指标 | 第30页 |
| 3.1.2 NOM分子量分布特征 | 第30-32页 |
| 3.1.3 荧光物质的识别 | 第32-35页 |
| 3.2 UV/PDS氧化去除有机物的效能分析 | 第35-44页 |
| 3.2.1 UV、PDS和UV/PDS氧化去除能力的比较 | 第35-37页 |
| 3.2.2 PDS剂量的影响 | 第37-41页 |
| 3.2.3 温度的影响 | 第41-42页 |
| 3.2.4 EEM-PARAFAC半定量荧光特性有机物的去除情况 | 第42-44页 |
| 3.3 响应面分析 | 第44-47页 |
| 3.4 UV/PDS体系反应动力学规律 | 第47-51页 |
| 3.4.1 动力学模型 | 第47-48页 |
| 3.4.2 UV_(254)、DOC去除动力学研究 | 第48-49页 |
| 3.4.3 荧光物质去除反应的动力学研究 | 第49-51页 |
| 3.5 本章小结 | 第51-53页 |
| 第4章 UV/PDS预处理对超滤膜污染的影响及机理 | 第53-71页 |
| 4.1 超滤工艺出水水质 | 第53页 |
| 4.2 UV/PDS预处理程度对超滤膜污染的影响 | 第53-58页 |
| 4.2.1 PDS剂量对TMP的影响 | 第54-56页 |
| 4.2.2 UV剂量对TMP的影响 | 第56-58页 |
| 4.3 UV/PDS预处理对超滤膜污染的影响机理 | 第58-67页 |
| 4.3.1 有机物分子量分布变化对超滤膜污染的影响 | 第58-62页 |
| 4.3.2 有机物亲疏水性变化对超滤膜污染的影响 | 第62-64页 |
| 4.3.3 荧光组分对超滤膜污染的影响 | 第64-67页 |
| 4.4 膜表面污染物官能团的观测分析 | 第67-68页 |
| 4.5 膜表面污染物形貌的观测分析 | 第68-70页 |
| 4.6 本章小结 | 第70-71页 |
| 结论 | 第71-72页 |
| 参考文献 | 第72-80页 |
| 致谢 | 第80页 |
