ZnO基稀磁半导体电磁特性的研究
| 摘要 | 第4-5页 |
| ABSTRACT | 第5页 |
| 1 稀磁半导体综述 | 第10-14页 |
| 1.1 引言 | 第10-14页 |
| 1.1.1 研究背景 | 第10-11页 |
| 1.1.2 ZNO的基本性质 | 第11-12页 |
| 1.1.3 ZNO基稀磁半导体基本性质 | 第12-13页 |
| 1.1.4 研究目的和意义 | 第13-14页 |
| 2 制备和表征 | 第14-20页 |
| 2.1 制备方法 | 第14-15页 |
| 2.1.1 制备方法 | 第14页 |
| 2.1.2 水热法 | 第14-15页 |
| 2.2 表征技术 | 第15-20页 |
| 2.2.1 XRD衍射仪 | 第15-17页 |
| 2.2.2 电子扫描电镜（SEM） | 第17页 |
| 2.2.3 傅里叶红外测试（FT-IR） | 第17页 |
| 2.2.4 X射线光电子能谱分析（XPS） | 第17页 |
| 2.2.5 RAMAN测试仪 | 第17-18页 |
| 2.2.6 霍尔效应测试仪 | 第18-19页 |
| 2.2.7 磁致电阻测试 | 第19-20页 |
| 3 实验 | 第20-22页 |
| 3.1 实验药品 | 第20页 |
| 3.2 实验仪器 | 第20-22页 |
| 4 ZN_XCO_(1-X)O结果分析 | 第22-36页 |
| 4.1 实验过程 | 第22-24页 |
| 4.1.1 ZNO纳米棒的合成 | 第22页 |
| 4.1.2 ZN_(1-X)CO_XO的合成 | 第22-23页 |
| 4.1.3 制备条件 | 第23-24页 |
| 4.2 XRD结果 | 第24-26页 |
| 4.3 SEM结果 | 第26-27页 |
| 4.4 XPS结果 | 第27-29页 |
| 4.5 RAMAN结果分析 | 第29-30页 |
| 4.6 FT-IR结果 | 第30-31页 |
| 4.7 霍尔效应测试结果 | 第31-34页 |
| 4.8 磁阻效应测试结果 | 第34-36页 |
| 5 ZN_XMN_(1-X)O制备研究 | 第36-47页 |
| 5.1 实制备过程和条件 | 第36-37页 |
| 5.1.1 制备过程 | 第36-37页 |
| 5.1.2 制备条件 | 第37页 |
| 5.2 ZN_XMN_(1-X)O结果分析 | 第37-47页 |
| 5.2.1 XRD分析 | 第37-39页 |
| 5.2.2 SEM分析 | 第39-40页 |
| 5.2.3 XPS分析 | 第40-41页 |
| 5.2.4 RAMAN分析 | 第41-42页 |
| 5.2.5 FT-IR分析 | 第42-43页 |
| 5.2.6 霍尔效应分析 | 第43-45页 |
| 5.2.7 磁阻效应分析 | 第45-47页 |
| 总结与展望 | 第47-49页 |
| 参考文献 | 第49-53页 |
| 作者攻读硕士学位期间的学术论文目录 | 第53-54页 |
| 致谢 | 第54-55页 |
