| 摘要 | 第4-5页 |
| ABSTRACT | 第5页 |
| 1 绪论 | 第10-16页 |
| 1.1 研究背景与意义 | 第10-13页 |
| 1.1.1 全球光伏产业的发展情况 | 第11-13页 |
| 1.2 晶硅太阳能电池的简介 | 第13-16页 |
| 1.2.1 PN结 | 第13-14页 |
| 1.2.2 光生伏特效应 | 第14-16页 |
| 2 利用固体激光器制备太阳能电池的理论分析 | 第16-23页 |
| 2.1 激光产生理论基础 | 第16-17页 |
| 2.2 固体激光器加工系统 | 第17-20页 |
| 2.3 激光与材料的相互特性 | 第20-21页 |
| 2.4 基于固体激光器加工晶硅太阳能电池 | 第21-23页 |
| 2.4.1 激光掺杂选择性发射极太阳能电池 | 第21-22页 |
| 2.4.2 利用激光制备硅太阳能电池表面织化结构 | 第22-23页 |
| 3 探索激光刻蚀硅片背面沉积层最佳参数 | 第23-50页 |
| 3.1 优化激光工作波长 | 第23-24页 |
| 3.2 优化固体激光器工作参数 | 第24-29页 |
| 3.2.1 通过数值计算分析高斯光束焦点 | 第24-26页 |
| 3.2.2 通过实验探索高斯光束焦点 | 第26-29页 |
| 3.3 探索固体激光器功率对硅片的影响 | 第29-42页 |
| 3.4 探索固体激光器速度对硅片的影响 | 第42-46页 |
| 3.5 探索固体激光器脉冲重复频率对硅片的影响 | 第46-48页 |
| 3.6 本章小结 | 第48-50页 |
| 4 沉积减反层提高晶硅电池性能 | 第50-72页 |
| 4.1 制备背结硅太阳能电池 | 第50-55页 |
| 4.1.1 表面织构化 | 第50-51页 |
| 4.1.2 扩散与刻蚀 | 第51-52页 |
| 4.1.3 利用PECVD沉积SINx减反层 | 第52-55页 |
| 4.2 利用SiN_x提高电池少子寿命 | 第55-56页 |
| 4.3 钝化Al_2O_3在激光刻蚀中的应用 | 第56-63页 |
| 4.3.1 ALD制备Al_2O_3最优方案及在激光刻蚀中的应用 | 第56-60页 |
| 4.3.2 退火对Al_2O_3沉积层的影响及在激光刻蚀中的应用 | 第60-63页 |
| 4.4 Al_2O_3/SiN_x叠层结构在激光刻蚀中的应用 | 第63-65页 |
| 4.5 激光刻蚀硅片背表面电池效能分析 | 第65-69页 |
| 4.6 本章小结 | 第69-72页 |
| 5 结论与展望 | 第72-74页 |
| 5.1 结论 | 第72-73页 |
| 5.2 展望 | 第73-74页 |
| 参考文献 | 第74-77页 |
| 作者攻读学位期间发表的学术论文目录 | 第77-78页 |
| 致谢 | 第78-79页 |
