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回旋管电子光学系统结构设计与优化

摘要第5-6页
abstract第6-7页
第一章 绪论第10-16页
    1.1 研究的背景和意义第10页
    1.2 高功率回旋管研究现状第10-12页
    1.3 回旋管电子光学系统的组成第12-15页
    1.4 本文的主要工作和结构安排第15-16页
第二章 应用电子光学理论分析电子运动轨迹第16-29页
    2.1 电子光学系统基本理论及其推导第16-22页
        2.1.1 电磁场的基本定律第16-17页
        2.1.2 轴对称静电场分析第17-19页
        2.1.3 轴对称磁场分析第19-21页
        2.1.4 圆柱坐标系中的电子轨迹方程第21-22页
    2.2 求解电子光学系统的软件介绍第22-23页
    2.3 磁控注入电子枪基本理论和性能参数第23-28页
        2.3.1 磁控注入电子枪中收敛磁场的绝热压缩作用第23-24页
        2.3.2 通电线圈磁场模拟第24-26页
        2.3.3 磁控注入电子枪的性能参数第26-28页
    2.4 本章小结第28-29页
第三章 140GHZ单阳极磁控电子枪设计与优化第29-46页
    3.1 电子枪基本参数及结构的初步确定第29-33页
    3.2 初步计算电子枪参数第33页
    3.3 优化结果与分析第33-39页
        3.3.1 电子注在发射带附近的能量转换第36-37页
        3.3.2 电子注在过渡区的能量转换第37-39页
    3.4 影响电子注参数的因素第39-45页
        3.4.1 阴极中心半径对电子注参数的影响第39页
        3.4.2 前成形极对电子注参数的影响第39-40页
        3.4.3 阴极倾角对电子注参数的影响第40-41页
        3.4.4 阴阳极间距对电子注参数的影响第41-42页
        3.4.5 磁压缩比对电子注参数的影响第42-43页
        3.4.6 发射带宽度对电子注参数的影响第43-44页
        3.4.7 阳极电压对电子注参数的影响第44-45页
    3.5 本章小结第45-46页
第四章 W波段单阳极电子枪设计与收集极散焦优化第46-57页
    4.1 W波段单阳极磁控注入电子枪的设计第46-48页
    4.2 电子枪出口寄生振荡模式分析第48-50页
    4.3 回旋管收集极散焦理论第50-52页
    4.4 控制收集极电子落点宽度的方案第52-56页
    4.5 本章小结第56-57页
第五章 总结第57-58页
致谢第58-59页
参考文献第59-62页

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