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基于材料弹性域去除的超光滑表面加工关键技术研究

摘要第1-14页
Abstract第14-16页
第一章 绪论第16-30页
   ·课题来源与研究背景第16-20页
     ·课题来源第16页
     ·研究背景第16-20页
   ·国内外研究现状第20-27页
     ·超光滑表面加工方法综述第20-26页
     ·弹性域去除机理研究现状第26-27页
   ·论文研究的主要内容第27-30页
第二章 光学材料弹性域去除机理研究第30-63页
   ·表层原子键能弱化机制第30-41页
     ·光学元件表面羟基化过程第30-34页
     ·纳米抛光液物理化学特性第34-36页
     ·光学元件表层原子键能弱化反应第36-41页
   ·光学材料加工弹性接触模型第41-44页
     ·光学材料弹性接触实验分析第41-43页
     ·光学材料弹性接触临界条件第43-44页
   ·弹性域去除机制的实验验证第44-55页
     ·纳米抛光颗粒运动轨迹第45-47页
     ·纳米抛光颗粒与光学元件表面的碰撞模型第47-50页
     ·纳米抛光颗粒弹性域射流加工效果第50-52页
     ·弹性域去除实现的证据第52-55页
   ·不同纳米抛光颗粒的材料去除特性第55-61页
     ·纳米氧化铈抛光颗粒第55-59页
     ·纳米氧化硅抛光颗粒第59-61页
   ·本章小结第61-63页
第三章 弹性域流体动压超光滑加工装置设计第63-81页
   ·弹性域流体动压超光滑加工系统的提出第63-66页
     ·现有加工方式对弹性域超光滑加工的局限性第63-64页
     ·弹性域流体动压超光滑加工原理第64-66页
   ·弹性域流体动压超光滑加工模型的建立第66-70页
     ·流体动压超光滑加工理论分析第66-68页
     ·流体动压超光滑加工模型研究第68-70页
   ·加工系统关键机构设计第70-74页
     ·流体动压超光滑加工系统的组成第70-71页
     ·多轴运动平台第71-72页
     ·流体动压超光滑加工的抛光头优化设计第72-74页
   ·加工装置的性能测试第74-79页
     ·抛光轮旋转精度测试第75-76页
     ·抛光头温度稳定性测试第76-77页
     ·加工能力测试第77-79页
   ·本章小结第79-81页
第四章 流体动压超光滑加工的加工特性研究第81-98页
   ·材料去除模型第81-87页
     ·材料去除理论分析第81-83页
     ·流体动力学仿真分析第83-85页
     ·实验建模分析第85-87页
   ·表面形貌演变规律第87-92页
     ·传统抛光的表面和亚表面模型第87-88页
     ·表面微观形貌随深度变化规律第88-90页
     ·表面质量随深度变化规律第90-91页
     ·表面结构特性对超光滑加工性能的影响第91-92页
   ·表面性能评价第92-96页
     ·HF刻蚀表面/亚表面质量分析第92-94页
     ·纳米压痕表面物理性能分析第94-96页
   ·本章总结第96-98页
第五章 流体动压超光滑加工工艺规律研究第98-113页
   ·工艺参数影响规律第98-103页
     ·抛光轮浸没深度对材料去除速率的影响第98-100页
     ·抛光轮转速对材料去除速率的影响第100-101页
     ·抛光间隙对材料去除速率的影响第101-102页
     ·工艺参数综合影响分析第102-103页
   ·微细抛光纹路的控制第103-111页
     ·微细抛光纹路产生机理第104-106页
     ·微细抛光纹路抑制策略第106-111页
   ·本章小结第111-113页
第六章 流体动压超光滑表面加工实验第113-129页
   ·不同材料可加工性的实验探索第113-118页
     ·单晶硅第113-114页
     ·单晶石英第114-115页
     ·非晶硅酸盐玻璃第115-116页
     ·微晶玻璃第116-118页
   ·不同前期工艺表面质量提升实验第118-120页
     ·离子束加工表面质量提升实验第118-119页
     ·磁流变加工表面质量提升实验第119-120页
   ·圆形平面镜全频域控制实验第120-125页
     ·低频面形控制第121-123页
     ·中频粗糙度控制第123-124页
     ·高频粗糙度控制第124-125页
   ·石英玻璃激光诱导损伤阈值提升初步实验第125-128页
     ·阈值测试系统第125-126页
     ·阈值结果与分析第126-128页
   ·本章小结第128-129页
第七章 总结与展望第129-133页
   ·全文总结第129-131页
   ·研究展望第131-133页
致谢第133-135页
参考文献第135-144页
作者在学期间取得的学术成果第144-146页

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