| 摘要 | 第1-4页 |
| Abstract | 第4-9页 |
| 第一章 绪论 | 第9-24页 |
| ·引言 | 第9-12页 |
| ·非线性光学晶体的研究进展 | 第10-11页 |
| ·硬脆材料超精密加工的难点 | 第11-12页 |
| ·超精密加工技术 | 第12-15页 |
| ·晶体超精密加工过程 | 第15-18页 |
| ·晶体超精密加工过程 | 第15-16页 |
| ·超光滑表面抛光加工过程使用的主要仪器简介 | 第16-18页 |
| ·国内超光滑表面抛光及晶体超精密加工的状况 | 第18-19页 |
| ·本论文的研究背景及意义 | 第19-20页 |
| ·本论文的主要工作及创新点 | 第20-21页 |
| 参考文献 | 第21-24页 |
| 第二章 化学机械抛光技术 | 第24-44页 |
| ·化学机械抛光 | 第24-28页 |
| ·化学机械抛光的应用及优缺点 | 第25-26页 |
| ·化学机械抛光的现状和发展趋势 | 第26-28页 |
| ·超光滑表面抛光机理 | 第28-32页 |
| ·化学机械抛光机理研究状况 | 第28-30页 |
| ·原子级材料去除 | 第30-31页 |
| ·LBO 晶体抛光的材料去除机理 | 第31-32页 |
| ·化学机械抛光的输入与输出参数 | 第32-38页 |
| ·抛光液 | 第33-35页 |
| ·抛光垫 | 第35-36页 |
| ·抛光参数 | 第36-37页 |
| ·小结 | 第37-38页 |
| ·本章小结 | 第38页 |
| 参考文献 | 第38-44页 |
| 第三章 LBO晶体超精密加工 | 第44-77页 |
| ·引言 | 第44-45页 |
| ·LBO晶体抛光前加工过程 | 第45-48页 |
| ·LBO晶体化学机械抛光表面平面度的研究 | 第48-58页 |
| ·抛光垫料 | 第48-49页 |
| ·抛光垫 | 第49-54页 |
| ·抛光粉 | 第54-55页 |
| ·加工过程参数 | 第55-56页 |
| ·晶体各向异性的影响 | 第56-57页 |
| ·小结 | 第57-58页 |
| ·LBO晶体化学机械抛光表面粗糙度及材料去除率的研究 | 第58-75页 |
| ·抛光粉的选取 | 第58-62页 |
| ·抛光垫的选取 | 第62-63页 |
| ·时间的影响 | 第63-64页 |
| ·过程参数的影响 | 第64-70页 |
| ·Taguchi 方法实验设置 | 第65-66页 |
| ·抛光参数对材料去除率的影响 | 第66-68页 |
| ·抛光参数对表面粗糙度的影响 | 第68-69页 |
| ·离差分析 | 第69-70页 |
| ·小结 | 第70页 |
| ·抛光液PH 值影响 | 第70-73页 |
| ·LBO晶体各向异性的影响 | 第73-74页 |
| ·小结 | 第74-75页 |
| ·参数综合优化及本章总结 | 第75-76页 |
| 参考文献 | 第76-77页 |
| 第四章 Nd:YAG 透明陶瓷及其他硬脆材料超精密加工 | 第77-92页 |
| ·Nd:YAG 透明陶瓷超精密加工 | 第77-86页 |
| ·切割 | 第78-79页 |
| ·粗研磨 | 第79-80页 |
| ·精密研磨 | 第80页 |
| ·抛光 | 第80-81页 |
| ·超精密抛光 | 第81-85页 |
| ·获得较高精度的表面平面度 | 第81-82页 |
| ·获得较高精度的微观表面 | 第82-85页 |
| ·小结 | 第85-86页 |
| ·K9 玻璃抛光 | 第86-88页 |
| ·载物夹具上粘接晶体分布 | 第86页 |
| ·多块小直径K9 玻璃成盘抛光 | 第86-87页 |
| ·大直径的K9 玻璃抛光 | 第87-88页 |
| ·小结 | 第88页 |
| ·其他晶体抛光实验研究 | 第88-90页 |
| ·KTP 晶体平面度抛光实验 | 第88-89页 |
| ·YVO_4 晶体平面度抛光实验 | 第89-90页 |
| ·本章总结 | 第90-91页 |
| 参考文献 | 第91-92页 |
| 第五章 全文总结与展望 | 第92-94页 |
| 攻读博士学位期间的主要成果 | 第94-95页 |
| 致谢 | 第95页 |